[發明專利]調節裝置、晶圓曝光設備及晶圓邊緣曝光方法

在審

• 申請號: 201911166000.8
• 申請日: 2019-11-25
• 公開（公告）號: CN112835264A
• 公開（公告）日: 2021-05-25
• 發明（設計）人: 溫建勝
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 史治法

1.一種調節裝置，其特征在于，用于晶圓的邊緣曝光，調節裝置包括：

遮光圓盤，所述遮光圓盤的直徑小于晶圓的直徑；

調節模塊，包括環形邊緣部，位于所述遮光圓盤的外圍；

驅動裝置，用于驅動所述環形邊緣部運動，以調節所述環形邊緣部與所述遮光圓盤的中心的間距。

2.根據權利要求1所述的調節裝置，其特征在于，所述調節模塊還包括連桿，所述連桿一端與所述環形邊緣部相連接，另一端與所述驅動裝置相連接。

3.根據權利要求2所述的調節裝置，其特征在于，所述調節模塊包括若干個所述環形邊緣部及若干個所述連桿，所述連桿與所述環形邊緣部一一對應連接；

所述驅動裝置包括：

主動齒輪，位于所述遮光圓盤上；

被動齒輪，位于所述遮光圓盤上，所述被動齒輪的中心與所述遮光圓盤的中心相重合；所述被動齒輪與所述主動齒輪咬合；所述被動齒輪上設有若干個弧形滑槽，若干個所述弧形滑槽以所述被動齒輪的中心為中心呈輻射狀分布；

所述調節模塊還包括若干個凸柱，所述凸柱與所述連桿及所述弧形滑槽一一對應設置，且所述凸柱的底部固定于所述連接桿的上表面，所述凸部的頂部至少延伸至所述弧形滑槽內。

4.根據權利要求3所述的調節裝置，其特征在于，相鄰的所述環形邊緣部位于不同的水平面上，且相鄰的所述環形邊緣部具有部分上下重疊的區域。

5.根據權利要求2所述的調節裝置，其特征在于，所述遮光圓盤包括若干個扇形葉片，各所述扇形葉片的側壁均設有長條狀凹槽；所述連桿位于所述長條狀凹槽內。

6.根據權利要求1所述的調節裝置，其特征在于，所述環形邊緣部與所述遮光圓盤的外邊緣具有間距；所述調節裝置還包括環形邊緣凸起部，所述環形邊緣凸起部位于所述遮光圓盤的外圍，且所述環形邊緣部與所述環形邊緣凸起部具有部分上下重疊的區域。

7.根據權利要求1所述的調節裝置，其特征在于，所述環形邊緣部具有至少大于3mm的寬度。

8.一種晶圓邊緣曝光設備，其特征在于，包括：

光源模塊；

如權利要求1～7中任一項所述的調節裝置，位于所述光源模塊的下方，以用于調節晶圓邊緣區域的曝光。

9.根據權利要求8所述的晶圓邊緣曝光設備，其特征在于，所述光源模塊包括光源和位于所述光源下方的透鏡。

10.根據權利要求9所述的晶圓邊緣曝光設備，其特征在于，所述透鏡為凸透鏡。

11.根據權利要求9所述的晶圓邊緣曝光設備，其特征在于，所述光源包括環形光源，所述透鏡包括環形透鏡。

12.根據權利要求11所述的晶圓邊緣曝光設備，其特征在于，所述環形光源，所述環形透鏡，所述調劑裝置和所述晶圓的中心在同一直線上。

13.根據權利要求9所述的晶圓邊緣曝光設備，其特征在于，所述光源發出的光經過所述透鏡照射到所述晶圓上的光照區域至少覆蓋所述晶圓的邊緣區域。

14.一種晶圓邊緣曝光方法，其特征在于，包括：

提供權利要求8～13中任意一項所述的晶圓邊緣曝光設備；

將晶圓置于所述晶圓邊緣曝光設備下方；

采用所述晶圓邊緣曝光設備對所述晶圓進行邊緣曝光。