[發(fā)明專利]懸浮壓接功率半導(dǎo)體模塊在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911157725.0 | 申請日: | 2019-11-22 |
| 公開(公告)號: | CN111261619A | 公開(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊成標;董明;劉婧;劉鵬;肖彥;李新安;段彬彬;朱玉德 | 申請(專利權(quán))人: | 湖北臺基半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L25/07 | 分類號: | H01L25/07;H01L23/31;H01L23/367 |
| 代理公司: | 襄陽嘉琛知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 42217 | 代理人: | 嚴崇姚 |
| 地址: | 441021 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 懸浮 功率 半導(dǎo)體 模塊 | ||
本發(fā)明的名稱為懸浮壓接功率半導(dǎo)體模塊。屬于高壓功率半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域。它主要是解決現(xiàn)有芯片和電極片通過焊料高溫焊接而存在焊接應(yīng)力和焊接空洞的問題。它的主要特征是:包括模塊底板,絕緣導(dǎo)熱片,金屬A、K電極,上、下鉬圓片,功率半導(dǎo)體芯片,門極組件,模塊塑料外殼;上鉬圓片中心設(shè)有安裝孔;門極引線組件卡入該安裝孔內(nèi)定位;金屬A電極、下鉬圓片、功率半導(dǎo)體芯片、上鉬圓片、門極引線組件和金屬K電極依次為壓接接觸。本發(fā)明具有可消除芯片高溫焊接產(chǎn)生的形變和應(yīng)力,能滿足客戶對模塊產(chǎn)品提出的高電壓、大電流要求的特點,主要用于高壓軟啟動電源、高壓靜止無功補償電源、高壓脈沖功率電源、高壓直流輸電等領(lǐng)域的高壓半導(dǎo)體器件。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于高壓功率半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域。涉及一種懸浮壓接功率半導(dǎo)體模塊。具體為一種性能有大幅度改善的大電流功率半導(dǎo)體模塊。主要應(yīng)用于UPS電源、高壓軟啟動電源、高壓靜止無功補償電源、高壓直流輸電等領(lǐng)域。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的功率半導(dǎo)體模塊芯片,其內(nèi)部構(gòu)造是:半導(dǎo)體芯片+稀有金屬鉬通過焊料高溫焊接而成,由于單晶硅晶片和金屬鉬之間存在焊接應(yīng)力導(dǎo)致功率半導(dǎo)體模塊使用的芯片發(fā)生彎曲形變,同時由于焊接焊料的關(guān)系,在單晶硅晶片和金屬鉬的焊接存在空洞,由于以上原因嚴重影響功率半導(dǎo)體模塊的性能,特別是高電壓、大電流產(chǎn)品的性能,高溫焊接導(dǎo)致的物理形變使其耐久性、可靠性無法滿足新的需求,因此,必須采用新的半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)和工藝技術(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對上述不足,提供一種全新芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu)的懸浮壓接功率半導(dǎo)體模塊,可消除以前芯片高溫焊接產(chǎn)生的形變和應(yīng)力,能滿足客戶對模塊產(chǎn)品提出的高電壓、大電流的要求。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案是:一種懸浮壓接功率半導(dǎo)體模塊,包括模塊底板、絕緣導(dǎo)熱片、金屬A電極、功率半導(dǎo)體芯片、門極組件、金屬K電極和模塊塑料外殼,其特征在于:還包括下鉬圓片和上鉬圓片;所述上鉬圓片中心設(shè)有安裝孔;所述門極引線組件卡入該安裝孔內(nèi)定位,引出門極控制極;所述金屬A電極、下鉬圓片、功率半導(dǎo)體芯片、上鉬圓片、門極引線組件和金屬K電極依次為壓接接觸(歐姆接觸)。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案中所述的模塊塑料外殼內(nèi)形成密封腔體,該密封腔體內(nèi)充有凝膠或者環(huán)氧樹脂從而既保證各部件相互接觸良好,又防止芯片氧化或高壓打火。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案中所述的功率半導(dǎo)體芯片的邊緣兩面雙負角臺面設(shè)有環(huán)形直角圓柱形絕緣保護硅膠環(huán),雙面表面臺面設(shè)有2-4層高純度高絕緣性的聚酰亞胺鈍化層。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案中所述的硅膠環(huán)外層表面設(shè)有凹槽,增加爬電距離。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案中所述的鉬圓片和上鉬圓片的上下表面、金屬A電極和金屬K電極的內(nèi)外表面為研磨面,面平面度和平行度小于10微米。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案中所述的上鉬圓片、下鉬圓片的表面涂鍍有釕鈍化層,防止上鉬圓片、下鉬圓片熱氧化。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案中所述的功率半導(dǎo)體芯片的陰、陽極表面涂覆10-100微米厚的金屬導(dǎo)電層。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案中所述的功率半導(dǎo)體芯片與上鉬圓片和下鉬圓片之間為懸浮壓接接觸。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案中所述的功率半導(dǎo)體芯片的邊緣兩面雙負角臺面上的絕緣保護硅膠環(huán)分別與上鉬圓片、下鉬圓片定位配合。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案中所述的功率半導(dǎo)體芯片的邊緣兩面雙負角的臺面造型角度在0.5°與35°之間。
本發(fā)明由于采用由金屬A電極、下鉬圓片、功率半導(dǎo)體芯片、上鉬圓片、門極組件、金屬K電極和模塊塑料外殼組裝而成的半導(dǎo)體器件,因而功率半導(dǎo)體芯片與上下鉬圓片直接壓接而不再用傳統(tǒng)工藝的高溫焊接,這樣就消除了以前芯片高溫焊接而產(chǎn)生的形變和應(yīng)力,進而保證了器件特性的穩(wěn)定性和可靠性。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L25-00 由多個單個半導(dǎo)體或其他固態(tài)器件組成的組裝件
H01L25-03 .所有包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中同一小組內(nèi)的相同類型的器件,例如整流二極管的組裝件
H01L25-16 .包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中兩個或多個不同大組內(nèi)的類型的器件,例如構(gòu)成混合電路的
H01L25-18 .包含在H01L 27/00至H01L 51/00各組中兩個或多個同一大組的不同小組內(nèi)的類型的器件
H01L25-04 ..不具有單獨容器的器件
H01L25-10 ..具有單獨容器的器件





