[發明專利]可變點陣全息隱形圖案成型方法

在審

• 申請號: 201911155213.0
• 申請日: 2019-11-22
• 公開（公告）號: CN111300963A
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發明（設計）人: 陳維斌;陳敏輝;劉振江
• 申請（專利權）人: 珠海市瑞明科技有限公司
• 主分類號: B41C1/05
• 分類號: B41C1/05;B41C1/00;B41M3/14
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 張志輝

本發明公開了一種可變點陣全息隱形圖案成型方法，包括：設計微結構圖案；將微結構圖案繪制成光柵點陣；光柵點陣送至鉑金浮雕機，鉑金浮雕機將光柵點陣參數解讀并傳送至激光器，激光器將光柵點陣激光蝕刻在光刻膠版上；將蝕刻過的光刻膠版經由顯影液顯影出圖案以成為光刻母片；根據印刷載體，光刻母片將圖案轉印至定位轉移膜、電化鋁、復合紙或薄膜上。本方法改變傳統的機械切割技術，自主設計微結構圖案，再將微結構圖案繪制成光柵點陣，依次通過鉑金浮雕機和激光器將光柵點陣激光蝕刻在光刻膠版，并形成光刻母片以將圖案轉印至各類產品上，使得用戶在產品表觀上看不到圖形內容，達到隱形防偽的目的。

技術領域

本發明涉及全息點陣光刻技術，特別涉及可變點陣全息隱形圖案成型方法。

背景技術

傳統的全息點陣光刻技術，主要是利用鐳射點陣光斑在光刻膠版雕刻，先利用傳統機械切割技術將在金屬遮罩片上切出所需要的形狀和大小，如方形、圓形等，激光透過金屬遮罩片形成方形或圓形光斑并在光刻膠版雕刻，最終轉印到產品上。現有的點陣光刻技術往往光斑點單一，圖案不可變，導致光斑點無法有過多的變化。

發明內容

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本發明提出一種可變點陣全息隱形圖案成型方法，其能夠根據自主設計圖案制作具有隱形防偽功能的產品。

根據本發明實施例的可變點陣全息隱形圖案成型方法，包括以下步驟：步驟一、設計微結構圖案；步驟二、將微結構圖案繪制成光柵點陣；步驟三、光柵點陣送至鉑金浮雕機，鉑金浮雕機將光柵點陣參數解讀并傳送至激光器，激光器將光柵點陣激光蝕刻在光刻膠版上；步驟四、將蝕刻過的光刻膠版經由顯影液顯影出圖案以成為光刻母片；步驟五、根據印刷載體，光刻母片將圖案轉印至定位轉移膜、電化鋁、復合紙或薄膜上。

至少具有如下有益效果：本方法改變傳統的機械切割技術，自主設計微結構圖案，再將微結構圖案繪制成光柵點陣，依次通過鉑金浮雕機和激光器將光柵點陣激光蝕刻在光刻膠版，并形成光刻母片以將圖案轉印至各類產品上，使得用戶在產品表觀上看不到圖形內容，達到隱形防偽的目的。

根據本發明的一些實施例，所述微結構圖案包括圖形和/或文字。

具體實施方式

下面詳細描述本發明的實施例，本發明的描述中，除非另有明確的限定，設計、繪制、蝕刻、轉印等詞語應做廣義理解，所屬技術領域技術人員可以結合技術方案的具體內容合理確定上述詞語在本發明中的具體含義。

本發明提供一種可變點陣全息隱形圖案成型方法，包括以下步驟：

步驟一、設計微結構圖案；

步驟二、將微結構圖案繪制成光柵點陣；

步驟三、光柵點陣送至鉑金浮雕機，鉑金浮雕機將光柵點陣參數解讀并傳送至激光器，激光器將光柵點陣激光蝕刻在光刻膠版上；

步驟四、將蝕刻過的光刻膠版經由顯影液顯影出圖案以成為光刻母片；

步驟五、根據印刷載體，光刻母片將圖案轉印至定位轉移膜、電化鋁、復合紙或薄膜上。

本方法改變傳統的機械切割技術，自主設計微結構圖案，有的圖案會跟隨設定的角度而一起旋轉，而有的圖案不會跟隨設定的角度而一起旋轉，再將微結構圖案繪制成光柵點陣，依次通過鉑金浮雕機和激光器將光柵點陣激光蝕刻在光刻膠版，并形成光刻母片以將圖案轉印至各類產品上，使得用戶在產品表觀上看不到圖形內容，達到隱形防偽的目的。

此外，微結構圖案包括圖形和/或文字，不局限于常規的方形或圓形光斑，每一個企業都可以有自己專有的微結構圖案，對應有自己的防偽標識。

上面對本發明實施例作了詳細說明，但是本發明不限于上述實施例，在所述技術領域普通技術人員所具備的知識范圍內，還可以在不脫離本發明宗旨的前提下作出各種變化。