[發明專利]可變點陣全息隱形圖案成型方法在審
| 申請號: | 201911155213.0 | 申請日: | 2019-11-22 |
| 公開(公告)號: | CN111300963A | 公開(公告)日: | 2020-06-19 |
| 發明(設計)人: | 陳維斌;陳敏輝;劉振江 | 申請(專利權)人: | 珠海市瑞明科技有限公司 |
| 主分類號: | B41C1/05 | 分類號: | B41C1/05;B41C1/00;B41M3/14 |
| 代理公司: | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人: | 張志輝 |
| 地址: | 519000 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 可變 點陣 全息 隱形 圖案 成型 方法 | ||
【權利要求書】:
1.可變點陣全息隱形圖案成型方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一、設計微結構圖案;
步驟二、將微結構圖案繪制成光柵點陣;
步驟三、光柵點陣送至鉑金浮雕機,鉑金浮雕機將光柵點陣參數解讀并傳送至激光器,激光器將光柵點陣激光蝕刻在光刻膠版上;
步驟四、將蝕刻過的光刻膠版經由顯影液顯影出圖案以成為光刻母片;
步驟五、根據印刷載體,光刻母片將圖案轉印至定位轉移膜、電化鋁、復合紙或薄膜上。
2.根據權利要求1所述的可變點陣全息隱形圖案成型方法,其特征在于,所述微結構圖案包括圖形和/或文字。
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