[發明專利]淺覆蓋層區礦產勘查大比例尺地質填圖方法

在審

• 申請號: 201911149048.8
• 申請日: 2019-11-21
• 公開（公告）號: CN110853118A
• 公開（公告）日: 2020-02-28
• 發明（設計）人: 吳文飛;胡加昆;李星;倪爾建;肖靜珊;朱政坤;陳子聰
• 申請（專利權）人: 云南冶金資源股份有限公司
• 主分類號: G06T11/20
• 分類號: G06T11/20;G06T11/40;G01C15/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.淺覆蓋層區礦產勘查大比例尺地質填圖方法，其特征在于：所述方法包括以下步驟：

S1：根據所需填圖的比例尺，按行業規范進行布線測量，選取合理的路線間距；

S2：在各路線上按行業規范分別選取點開挖探坑（1），探坑（1）之間的間距依據實測剖面的比例尺確定；

S3：通過探坑（1）揭露出的基巖殘積層（7）、基巖層（8）中的地質現象按照行業規范進行地質描述、記錄，然后根據地質描述、記錄對地質體歸類劃分，完成上述工作后回填探坑（1）；

S4：對多條路線上的多個探坑（1）完成數據采集后，所采集的地質點按坐標標記在地形圖上，根據地質點中的描述，對地質體進行界線劃分；

S5：對界線進行修正，沿路線方向選取兩不同地質體發生變化的兩探坑（1），在兩探坑（1）間布設點探槽（9），通過點探槽（9）揭露出的基巖殘積層（7）、基巖層（8）中的地質現象按照行業規范進行地質描述、記錄，然后根據地質描述、記錄對地質體歸類劃分，完成上述工作后回填點探槽（9），通過點探槽（9）控制地質體的界線，并按行業規范完成地質體的產狀測量及地質描述，并在圖上做修正界線。

2.根據權利要求1所述的淺覆蓋層區礦產勘查大比例尺地質填圖方法，其特征在于：所述探坑（1）包括探坑口（2）、探坑壁（3）和探坑底（4），所述探坑（1）從淺到深依次揭露腐殖土層（5）、基巖全風化層（6）、基巖殘積層（7）和基巖層（8）。

3.根據權利要求1所述的淺覆蓋層區礦產勘查大比例尺地質填圖方法，其特征在于：所述探坑（1）深度根據揭露的實際情況最深開挖1.5m，所述探坑（1）規格設置為地表長1m×寬1m，往深部長×寬尺寸呈倒梯形體收縮。

4.根據權利要求1所述的淺覆蓋層區礦產勘查大比例尺地質填圖方法，其特征在于：所述S1中所需填圖的比例尺包括1：10000、1：5000、1：2000和1：1000，在淺覆蓋層的區域開展1：10000地質填圖，填圖線距設置為100m，探坑（1）點距設置為50-100m，探坑（1）揭露的地質點密度不少于80點/km²，在淺覆蓋層的區域開展1：5000地質填圖，填圖線距設置為50m，探坑（1）點距設置為30-60m，探坑（1）揭露的地質點密度不少于150點/km²，在淺覆蓋層的區域開展1：2000地質填圖，填圖線距設置為20-40m，探坑（1）點距設置為20-40m，探坑（1）揭露的地質點密度不少于300點/km²，在淺覆蓋層的區域開展1：1000地質填圖，填圖線距設置為10m，探坑（1）點距設置為10m，探坑（1）揭露的地質點密度不少于600點/km²。

5.根據權利要求1所述的淺覆蓋層區礦產勘查大比例尺地質填圖方法，其特征在于：所述S3中若同時需完成1：10000土壤地球化學采樣，可在探坑壁（3）上選擇符合《土壤地球化學測量規程》采集樣品，即采集基巖殘積層（7）中土壤，若同時需完成1：5000土壤地球化學采樣，可在探坑壁（3）上選擇符合《土壤地球化學測量規程》采集樣品，即采集基巖殘積層（7）中土壤。