[發明專利]硅片清洗設備、限位結構

在審

• 申請號: 201911146272.1
• 申請日: 2019-11-21
• 公開（公告）號: CN110767584A
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 左國軍;余興梅;萬紅朝
• 申請（專利權）人: 常州捷佳創精密機械有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/68;H01L31/18
• 代理公司: 11343 北京友聯知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 汪海屏;劉瀟

1.一種硅片清洗設備，其特征在于，包括：

清洗設備本體；

限位結構，設于所述清洗設備本體上，并適于在第一位置和第二位置之間切換；

其中，所述限位結構在所述第一位置時避讓硅片載具，以使得所述硅片載具移入或移出所述硅片清洗設備；所述限位結構在所述第二位置時止擋所述硅片載具，以限制移入所述硅片清洗設備的所述硅片載具移動。

2.根據權利要求1所述的硅片清洗設備，其特征在于，所述清洗設備本體包括：

槽體，適于容納所述硅片載具，并具有開口；

轉軸，設于所述槽體上；

蓋體，適于圍繞所述轉軸轉動，以避讓或遮擋所述開口；

其中，所述限位結構設于所述轉軸上，并通過圍繞所述轉軸轉動，在所述第一位置和所述第二位置之間切換。

3.根據權利要求2所述的硅片清洗設備，其特征在于，

所述蓋體在圍繞所述轉軸轉動時，帶動所述轉軸旋轉，所述轉軸通過所述旋轉，帶動所述限位結構圍繞所述轉軸轉動。

4.根據權利要求1所述的硅片清洗設備，其特征在于，所述清洗設備本體包括：

槽體，適于容納所述硅片載具，并具有開口；

蓋體，適于避讓或遮擋所述開口；

其中，所述限位結構設于所述蓋體的內壁上，以使得所述蓋體避讓所述開口時，所述限位結構切換至所述第一位置，并使得所述蓋體遮擋所述開口時，所述限位結構切換至所述第二位置。

5.根據權利要求1所述的硅片清洗設備，其特征在于，所述清洗設備本體包括：

槽體，適于容納所述硅片載具；

其中，所述限位結構設于所述槽體的內壁上，并通過圍繞所述槽體的內壁轉動，在所述第一位置和所述第二位置之間切換。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的硅片清洗設備，其特征在于，還包括：

壓桿，設于所述限位結構遠離所述清洗設備本體的一端；

分隔部，設于所述壓桿上；

其中，所述硅片載具適于容納多個順次排列的硅片，所述壓桿沿所述硅片在所述硅片載具中的排列方向設置；多個所述分隔部相互間隔地設置，以分隔所述硅片載具中的所述硅片。

7.根據權利要求1至5中任一項所述的硅片清洗設備，其特征在于，

所述限位結構在所述第二位置時，所述限位結構與所述硅片載具之間具有間隙。

8.根據權利要求1至5中任一項所述的硅片清洗設備，其特征在于，還包括：

固定件，設于所述清洗設備本體中；

其中，所述限位結構在所述第二位置時，所述固定件與所述限位結構相互配合，以在所述硅片載具相對的兩端，分別止擋所述硅片載具。

9.根據權利要求1至5中任一項所述的硅片清洗設備，其特征在于，

所述限位結構適于通過伸展而增加長度，或通過收縮而減少長度，或通過彎折而改變相對于所述清洗設備本體的角度。

10.一種限位結構，其特征在于，

所述限位結構設于硅片清洗設備的清洗設備本體上，并適于在第一位置和第二位置之間切換；

其中，所述限位結構在所述第一位置時避讓硅片載具，以使得所述硅片載具移入或移出所述硅片清洗設備；所述限位結構在所述第二位置時止擋所述硅片載具，以限制移入所述硅片清洗設備的所述硅片載具移動。