[發明專利]一種蒸發源組件有效
| 申請號: | 201911143930.1 | 申請日: | 2019-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN110791731B | 公開(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發明(設計)人: | 李志榮;謝志生;馬亮 | 申請(專利權)人: | 信利(仁壽)高端顯示科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 劉愛珍 |
| 地址: | 620500 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 蒸發 組件 | ||
1.一種蒸發源組件,其特征在于,由至少兩個蒸發源組成,每個蒸發源包括本體和設置在本體上的噴嘴,其中至少一個所述的蒸發源的噴嘴上端面高于其它蒸發源的噴嘴上端面;
所述蒸發源組件包括A蒸發源、B蒸發源,所述A蒸發源中放置主體材料,B蒸發源中放置摻雜材料;蒸鍍過程中A蒸發源噴嘴處的蒸鍍速率大于B蒸發源噴嘴處的蒸鍍速率,A蒸發源噴嘴處的蒸鍍速率為2~10?/s,B蒸發源噴嘴處的蒸鍍速率為0 .02~0.1 ?/s;所述B蒸發源噴嘴上端面高于A蒸發源噴嘴上端面,從A蒸發源噴嘴出來的主體材料升華的氣流協助速率較小的從B蒸發源噴嘴出來的摻雜材料升華的氣流的升華,促進不同材料氣體的摻雜。
2.如權利要求1所述的蒸發源組件,其特征在于,所述A蒸發源噴嘴和B蒸發源噴嘴的水平距離為L,所述B蒸發源噴嘴上端面與A蒸發源噴嘴上端面的高度差為△h ,L·tan30°≤△h≤L·tan60°。
3. 如權利要求2所述的蒸發源組件,其特征在于,△h = L·tan45°。
4.如權利要求1所述的蒸發源組件,其特征在于,所述B蒸發源噴嘴長度與所述A蒸發源噴嘴長度相同,所述B蒸發源的本體上端面高于所述A蒸發源的本體上端面。
5.如權利要求1所述的蒸發源組件,其特征在于,所述B蒸發源噴嘴長度大于所述A蒸發源噴嘴長度。
6.如權利要求5所述的蒸發源組件,其特征在于,所述B蒸發源的本體與所述A蒸發源的本體等高,所述B蒸發源的本體下端面與所述A蒸發源的本體下端面平齊。
7.如權利要求5所述的蒸發源組件,其特征在于,所述B蒸發源噴嘴處設置有加熱器。
8.如權利要求1所述的蒸發源組件,其特征在于,所述蒸發源組件包括A蒸發源、B蒸發源、A’蒸發源,所述B蒸發源位于A蒸發源和A’蒸發源之間,所述B蒸發源噴嘴上端面分別高于A蒸發源噴嘴上端面和A’蒸發源噴嘴上端面;
所述A蒸發源噴嘴和B蒸發源噴嘴之間水平距離為L,所述B蒸發源噴嘴上端面和A蒸發源噴嘴上端面的高度差為△h, L·tan30°≤△h≤L·tan60°;
所述A’蒸發源噴嘴和B蒸發源噴嘴之間水平距離為L’,所述B蒸發源噴嘴上端面和 A’蒸發源噴嘴上端面的高度差為△h’, L’·tan30°≤△h’≤L’·tan60°。
9.如權利要求1所述的蒸發源組件,其特征在于,所述蒸發源組件包括A蒸發源、B蒸發源、B’蒸發源,所述A蒸發源位于B蒸發源和B’蒸發源之間,所述B蒸發源噴嘴上端面和B’蒸發源噴嘴上端面均高于A蒸發源噴嘴上端面;
所述A蒸發源噴嘴和B蒸發源噴嘴之間水平距離為L,所述B蒸發源噴嘴上端面和A蒸發源噴嘴上端面的高度差為△h,其中,L·tan30°≤△h≤L·tan60°;
所述B’蒸發源噴嘴和A蒸發源噴嘴之間水平距離為L’,所述B’蒸發源噴嘴上端面和 A蒸發源噴嘴上端面的高度差為△h’, L’·tan30°≤△h’≤L’·tan60°。
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