[發(fā)明專利]一種硅片檢測系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911139211.2 | 申請日: | 2019-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN110736754A | 公開(公告)日: | 2020-01-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 賈永前;樊歡歡;董慧 | 申請(專利權(quán))人: | 晶海洋半導(dǎo)體材料(東海)有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/94 | 分類號: | G01N21/94 |
| 代理公司: | 31300 上海華誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 徐穎聰 |
| 地址: | 222000 江蘇省連*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 皮帶 皮帶輪 反光罩 硅片 光源 間隔空間 下表面 油污 反光 上套 相機(jī) 硅片檢測系統(tǒng) 硅片表面 檢測 反射 投射 傳送 陰影 鏡頭 拍攝 | ||
1.一種硅片檢測系統(tǒng),其特征在于,包括:
第一皮帶輪(10)和第二皮帶輪(20),所述第一皮帶輪(10)和所述第二皮帶輪(20)間隔開設(shè)置形成間隔空間,所述第一皮帶輪(10)上套設(shè)有第一皮帶(11),所述第二皮帶輪(20)上套設(shè)有第二皮帶(21),所述第一皮帶(11)能夠傳送硅片至所述第二皮帶(21)上;
多個光源(30),在所述第一皮帶(11)和所述第二皮帶(21)的下方分別設(shè)置至少一個所述光源(30);
反光罩(40),所述反光罩(40)設(shè)在所述光源(30)的下方且所述間隔空間位于所述反光罩(40)的上方,所述反光罩(40)上形成有反光縫(41);
相機(jī)(50),所述相機(jī)(50)設(shè)在所述反光罩(40)的下方且所述相機(jī)(50)的鏡頭朝向所述反光縫(41)以拍攝經(jīng)過所述間隔空間的硅片的表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng),其特征在于,所述第一皮帶輪(10)和所述第二皮帶輪(20)分別包括兩組,每組所述第一皮帶輪(10)包括兩個所述第一皮帶輪(10),每組中的兩個所述第一皮帶輪(10)沿傳輸方向間隔開設(shè)置,兩組所述第一皮帶輪(10)沿垂直于所述傳輸方向的方向間隔開設(shè)置;
每組所述第二皮帶輪(20)包括兩個所述第二皮帶輪(20),每組中的兩個所述第二皮帶輪(20)沿傳輸方向間隔開設(shè)置,兩組所述第二皮帶輪(20)沿垂直于所述傳輸方向的方向間隔開設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng),其特征在于,所述第一皮帶(11)和所述第二皮帶(21)的下方分別設(shè)置一個所述光源(30),所述第一皮帶(11)和所述第二皮帶(21)下方的所述光源(30)關(guān)于所述間隔空間的在豎直方向的中心線對稱。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng),其特征在于,所述反光罩(40)限定有一側(cè)開口的腔室且所述腔室的開口朝向所述光源(30)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng),其特征在于,所述反光罩(40)的中心線與所述間隔空間的在豎直方向的中心線共線。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng),其特征在于,所述反光縫(41)位于所述反光罩(40)的底部且沿垂直于傳輸方向的方向延伸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng),其特征在于,所述反光縫(41)從所述反光罩(40)的底部延伸至所述反光罩(40)的側(cè)壁。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng),其特征在于,還包括:
支撐架(60),所述第一皮帶輪(10)和所述第二皮帶輪(20)分別設(shè)在所述支撐架(60)上,所述光源(30)設(shè)在所述支撐架(60)上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng),其特征在于,所述相機(jī)(50)的鏡頭的中心線與所述間隔空間的中心線形成有夾角,所述夾角為0-16度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測系統(tǒng),其特征在于,所述光源(30)為黃色光源。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
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