[發明專利]顯示面板的制備方法

有效

• 申請號: 201911138907.3
• 申請日: 2019-11-20
• 公開（公告）號: CN110854304B
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 王守坤;秦韶陽
• 申請（專利權）人: 云谷（固安）科技有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
• 代理公司: 北京曼威知識產權代理有限公司 11709
• 代理人: 方志煒

1.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，所述顯示面板包括：顯示區、開孔區與隔離區，所述隔離區位于所述顯示區與所述開孔區之間，且至少部分圍繞所述開孔區；所述方法包括：

在襯底上形成支撐層，所述支撐層位于所述開孔區與所述隔離區；所述支撐層包括第一支撐子層與第二支撐子層；所述第一支撐子層在所述襯底上的投影位于所述開孔區，所述第二支撐子層在所述襯底上的投影位于所述隔離區；

在所述支撐層上形成第一阻擋層；所述第一阻擋層包括第一阻擋子層、第二阻擋子層與第三阻擋子層，所述第一阻擋子層位于所述第一支撐子層上，所述第二阻擋子層與所述第三阻擋子層位于所述第二支撐子層上，且所述第二阻擋子層位于所述第二支撐子層上的開槽區；

刻蝕所述第二阻擋子層，以暴露所述開槽區；

對所述開槽區進行刻蝕，得到凹槽與隔離柱，所述凹槽的底面的面積大于開口的面積；所述隔離柱與所述凹槽相間分布；所述隔離柱遠離所述襯底的表面的面積大于所述隔離柱靠近所述襯底的底面的面積。

2.根據權利要求1所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，還包括：

在所述襯底上形成緩沖層，所述緩沖層位于所述顯示區，所述支撐層與所述緩沖層在同一工序中形成；或者，

在所述襯底上形成緩沖層，所述緩沖層位于所述顯示區；

在所述緩沖層上形成隔離層，所述隔離層位于所述顯示區，所述支撐層與所述隔離層在同一工序中形成。

3.根據權利要求1所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，還包括：

在所述襯底上形成驅動電路層，所述驅動電路層位于所述顯示區，所述驅動電路層遠離所述襯底的表面與所述支撐層遠離所述襯底的表面齊平；

在所述驅動電路層上形成第二阻擋層；所述第二阻擋層遠離所述襯底的表面與所述第一阻擋層遠離所述襯底的表面齊平。

4.根據權利要求3所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述第二阻擋層與所述第一阻擋層在同一工序中形成。

5.根據權利要求3所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述驅動電路層包括連線層；

所述支撐層與所述連線層在同一工序中形成。

6.根據權利要求3所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述對所述開槽區進行刻蝕，得到凹槽與隔離柱之后，還包括：

刻蝕所述第一阻擋子層、所述第三阻擋子層與所述第二阻擋層，得到陣列基板；

所述刻蝕所述第一阻擋子層、所述第三阻擋子層與所述第二阻擋層，包括：

對所述第一阻擋子層、所述第三阻擋子層與所述第二阻擋層進行濕法刻蝕。

7.根據權利要求6所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，進行濕法刻蝕采用的酸液的成分包括磷酸、草酸、醋酸中的至少一種。

8.根據權利要求6所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述第一阻擋層的材料為氧化銦錫ITO、氧化銦鎵IGO或氧化銦鎵鋅IGZO；所述第二阻擋層的材料為氧化銦錫ITO、氧化銦鎵IGO或氧化銦鎵鋅IGZO。

9.根據權利要求1所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述在所述支撐層上形成第一阻擋層之后，還包括：

刻蝕所述第一阻擋子層。

10.根據權利要求9所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，刻蝕所述第一阻擋子層與刻蝕所述第二阻擋子層在同一工序中完成。

11.根據權利要求3所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述對所述開槽區進行刻蝕，得到凹槽與隔離柱之后，還包括：

刻蝕所述第三阻擋子層與所述第二阻擋層，得到陣列基板。