[發明專利]用于鏡頭保護片的蝕刻裝置和基于該裝置的蝕刻方法

有效

• 申請號: 201911135977.3
• 申請日: 2019-11-19
• 公開（公告）號: CN110746119B
• 公開（公告）日: 2022-02-08
• 發明（設計）人: 付雄鷹
• 申請（專利權）人: 成都西偌帕斯光電科技有限責任公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00;C09K13/08
• 代理公司: 成都三誠知識產權代理事務所(普通合伙) 51251
• 代理人: 成實;饒振浪

1.用于鏡頭保護片的蝕刻裝置，其特征在于，包括旋轉底座，設置在旋轉底座上的伸縮蝕刻機構，以及位于伸縮蝕刻機構上方的鏡頭保護片傳送機構，以及同時與旋轉底座、伸縮蝕刻機構、鏡頭保護片傳送機構連接的控制器(7)；所述伸縮蝕刻機構包括通過氣缸(4)安裝在旋轉底座上的蝕刻罐(3)；所述蝕刻罐(3)內部設置有將蝕刻罐(3)內部空間分隔為粗蝕刻槽(11)、清洗槽(12)以及微蝕刻槽(13)的分隔板(17)；所述氣缸(4)能帶動蝕刻罐(3)上升或下降；所述鏡頭保護片傳送機構包括傳送電機，通過傳送齒輪與傳送電機連接的傳送鏈條(2)，設置在傳送鏈條(2)上的若干個蝕刻吊籃(1)；控制器(7)與傳送電機連接，所述控制器(7)能控制傳送鏈條(2)傳動，且在蝕刻吊籃(1)到達蝕刻罐(3)上方時控制氣缸(4)伸縮以及旋轉底座旋轉，使蝕刻吊籃(1)依次伸入到粗蝕刻槽(11)、清洗槽(12)、微蝕刻槽(13)中。

2.根據權利要求1所述的用于鏡頭保護片的蝕刻裝置，其特征在于，所述旋轉底座包括底板(10)，安裝在底板(10)上的旋轉電機(8)，連接在旋轉電機(8)轉軸上的承載板(5)；氣缸(4)安裝在承載板(5)上，旋轉電機(8)與控制器(7)連接，旋轉電機(8)能帶動承載板(5)旋轉。

3.根據權利要求2所述的用于鏡頭保護片的蝕刻裝置，其特征在于，所述微蝕刻槽(13)和粗蝕刻槽(11)的底部均設置有加熱絲(14)，微蝕刻槽(13)內設置有微蝕刻槽傳感器(15)，粗蝕刻槽(11)內設置有粗蝕刻槽傳感器(16)，微蝕刻槽傳感器(15)、粗蝕刻槽傳感器(16)以及加熱絲(14)均與控制器(7)連接。

4.根據權利要求3所述的用于鏡頭保護片的蝕刻裝置，其特征在于，所述承載板(5)的下表面固定有支撐桿(9)，支撐桿(9)的下端安裝有滾輪(6)，所述滾輪(6)能在承載板(5)上滾動。

5.一種基于權利要求1～4任一項所述的蝕刻裝置的鏡頭保護片蝕刻方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1：向粗蝕刻槽內加入粗蝕刻液，微蝕刻槽內加入微蝕刻液，清洗槽中加入清水，并將涂布有光阻的鏡頭保護片放置在蝕刻吊籃中，控制器控制傳送鏈條移動；所述粗蝕刻液的原料按質量百分比包括：氫氟酸銨20％、草酸22％、硫酸銨20％、甘油3.8％、硫酸鋇22％、脂肪醇聚氧乙烯醚3％，余量為水；所述微蝕刻液的原料按質量百分比包括：氟化氫銨5％、氫氟酸15％、草酸20％、醋氟化氨6％、硫酸銨8％，余量為水；

步驟2：當蝕刻吊籃傳送至蝕刻罐上方時，控制器控制傳送鏈條停止，同時控制器控制氣缸伸長使氣缸推動蝕刻罐向上移動，并使蝕刻吊籃浸泡于粗蝕刻液中，對鏡頭保護片進行粗蝕刻；

步驟3：粗蝕刻完成后，控制器控制氣缸收縮，使蝕刻吊籃離開粗蝕刻液；同時，控制器控制旋轉電機旋轉，并控制氣缸再次伸長，使蝕刻吊籃浸泡于清水中，對鏡頭保護片進行清洗；

步驟4：清洗完成后，控制器控制氣缸收縮，使蝕刻吊籃離開清水；同時，控制器控制旋轉電機旋轉，并控制氣缸伸長，使蝕刻吊籃浸泡于微蝕刻液中，對鏡頭保護片進行微蝕刻；

步驟5：微蝕刻完成后，控制器控制氣缸收縮，使蝕刻吊籃離開微蝕刻液；同時，控制器控制旋轉電機旋轉，使蝕刻罐回歸原始位置，并控制傳送鏈條移動，返回步驟2對下一個蝕刻吊籃中的鏡頭保護片進行蝕刻；

步驟6：將微蝕刻后的鏡頭保護片浸泡于脫膜液中，去除鏡頭保護片上的光阻，完成蝕刻。

6.根據權利要求5所述的鏡頭保護片蝕刻方法，其特征在于，所述步驟2中粗蝕刻時間為1～2.5min，粗蝕刻溫度為35℃～37℃。

7.根據權利要求6所述的鏡頭保護片蝕刻方法，其特征在于，所述步驟4中微蝕刻的時間為1～1.5min，微蝕刻溫度為35℃～37℃。

8.根據權利要求7所述的鏡頭保護片蝕刻方法，其特征在于，所述步驟6中的脫膜液是配比為1:1的氫氧化鉀和水的混合液。