[發明專利]掩模板及掩模板的制造方法

在審

• 申請號: 201911111123.1
• 申請日: 2019-11-14
• 公開（公告）號: CN111308854A
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發明（設計）人: 孫朝寧
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F1/50
• 分類號: G03F1/50
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 唐秀萍

1.一種掩模板，其特征在于，所述掩膜板包括透光區，至少部分所述透光區內設有透光層，所述透光層內設有金屬有機框架聚合物。

2.如權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述透光區包括用于在陣列基板上形成光阻層的透光孔，所述透光層對應所述透光孔設置，所述透光層內金屬有機框架聚合物的密度沿所述透光孔的中部至兩端的方向逐漸增高。

3.如權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述透光區包括用于在陣列基板上形成光阻層的透光孔，所述透光層對應所述透光孔設置；所述透光層的厚度沿所述透光孔的中部至兩端的方向逐漸增高。

4.如權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述透光層的厚度大于或等于0.01mm，且小于或等于0.2mm。

5.如權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述金屬有機框架聚合物的總體積與所述透光層的體積的比值大于或等于10％，且小于或等于80％。

6.如權利要求1至5中任意一項所述的掩模板，其特征在于，所述金屬有機框架聚合物中的金屬元素包括過渡金屬、主族金屬和稀土金屬中的一種或多種。

7.如權利要求1至5中任意一項所述的掩模板，其特征在于，所述透光層的材質包括玻璃、聚氨酯樹脂或乙烯-聚醋酸乙烯酯共聚物。

8.如權利要求1至5中任意一項所述的掩模板，其特征在于，所述掩膜板包括透明基板，及設于所述透明基板側面的遮光層，所述透明基板的未被遮光層覆蓋的區域形成所述透光區。

9.一種掩模板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

提供透明基板；

在所述透明基板上設置遮光層，以在所述透明基板未被所述遮光層覆蓋的區域形成透光區；

在至少部分所述透光區內設置透光層，所述透光層內設有金屬有機框架聚合物。

10.如權利要求9所述的掩模板的制造方法，其特征在于，所述透光區包括用于在陣列基板上形成光阻層的透光孔，所述透光層對應所述透光孔設置，所述掩模板的制造方法還包括：

將所述透光層背離所述透明基板一側的部分材料去除，以使透光層的厚度由中部至兩端逐漸增加。