[發明專利]晶柱綜合檢測設備在審
| 申請號: | 201911103629.8 | 申請日: | 2019-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN110823286A | 公開(公告)日: | 2020-02-21 |
| 發明(設計)人: | 林火旺;劉立清;廖文民 | 申請(專利權)人: | 東莞市慶穎智能自動化科技有限公司 |
| 主分類號: | G01D21/02 | 分類號: | G01D21/02;B23K26/362;B23K26/70 |
| 代理公司: | 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203 | 代理人: | 吳成開;徐勛夫 |
| 地址: | 523000 廣東省東莞市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 綜合 檢測 設備 | ||
本發明公開一種晶柱綜合檢測設備,包括有機架、存放料架、上下料裝置、前升降裝置、后升降裝置、第一檢測裝置、第二檢測裝置、第三檢測裝置以及第四檢測裝置;該機架上由前往后依次具有第一檢測工站、第二檢測工站、第三檢測工站和第四檢測工站,且機架上設置有上輸送槽和下輸送槽,該上輸送槽中設置有上輸送機構,該下輸送槽位于上輸送槽的正下方,下輸送槽中設置有下輸送機構;通過配合利用各個裝置,使得本設備可對晶柱進行高度、內部瑕疵、平行度、垂直度和寬度、重量進行自動檢測,并根據檢測結果進行打標和分離,取代了傳統之依靠人工完成的方式,有效提高了檢測效率,并可保證檢測質量,為生產作業帶來了便利。
技術領域
本發明涉及半導體檢測領域技術,尤其是指一種晶柱綜合檢測設備。
背景技術
目前硅材料是電子工業中重要的半導體材料。硅是地球上最豐富的元素之一,占地殼的四分之一,以硅酸鹽和氧化物的形式存在,常見的砂和砂石都是二氧化硅,只是純度不同,以石英純度最高。制造半導體芯片的硅片首先要經過還原制成高純度的單質硅。作為半導體芯片材料,除了純度高以外,還需要長成均勻、完整、無缺陷的晶體。目前普遍采用以一小顆單晶硅生長出晶體。這一顆單晶硅就像一顆“種子”,周圍的硅原子會以和它一樣的排列順序在其周圍生長,生成純度高、均勻的晶體。生長出來的晶體通常為圓柱形,也稱為晶柱。晶柱生長出來后,需要把它切割成片狀并拋光,以制成硅晶片。
然而,晶柱在生成的過程中,由于各種因素,如參數的控制等,會使得各個晶柱的高度、重量、平行度和寬度等不一致,并且有些晶柱內部還會形成有瑕疵,因此,晶柱在生成后和出貨前均需要對其進行各項指標的檢測,以保證出貨產品的質量;目前,對晶柱各項指標的檢測主要依靠人工完成,效率低,并且檢測質量難以保證。因此,有必要研究一種方案以解決上述問題。
發明內容
有鑒于此,本發明針對現有技術存在之缺失,其主要目的是提供一種晶柱綜合檢測設備,其可對晶柱的各項指標進行綜合檢測,并可保證檢測質量。
為實現上述目的,本發明采用如下之技術方案:
一種晶柱綜合檢測設備,包括有機架、存放料架、上下料裝置、前升降裝置、后升降裝置、第一檢測裝置、第二檢測裝置、第三檢測裝置以及第四檢測裝置;該機架上由前往后依次具有第一檢測工站、第二檢測工站、第三檢測工站和第四檢測工站,且機架上設置有上輸送槽和下輸送槽,該上輸送槽和下輸送槽均貫穿第一檢測工站、第二檢測工站、第三檢測工站和第四檢測工站,該上輸送槽中設置有上輸送機構,該下輸送槽位于上輸送槽的正下方,下輸送槽中設置有下輸送機構;該存放料架設置于機架的前側;該上下料裝置設置于機架上并位于存放料架的側旁;該前升降裝置設置于上輸送槽的輸入端和下輸送槽的輸出端之間;該后升降裝置設置于上輸出槽的輸出端和下輸送槽的輸入端之間;該第一檢測裝置設置于第一檢測工站內,第一檢測裝置包括有測距傳感器,該測距傳感器位于上輸送槽的正上方;該第二檢測裝置設置于第二檢測工站內,該第二檢測裝置包括有第一升降旋轉模塊、IR光源和取像模塊,該第一升降旋轉模塊位于上輸送槽的正下方,該IR光源和取像模塊分別位于上輸送槽的上方兩側;該第三檢測裝置設置于第三檢測工站內,該第三檢測裝置包括有第二升降旋轉模塊和兩組光電傳感器,該第二升降旋轉模塊位于上輸送槽的正下方,該兩組光電傳感器位于上輸送槽的上方兩側并彼此正對;該第四檢測裝置設置于第四檢測工站內,該第四檢測裝置包括有升降模塊、稱重傳感器和打標機構,該升降模塊位于上輸送槽的正下方,該稱重傳感器設置于升降模塊上,該打標機構位于上輸送槽的上方一側。
作為一種優選方案,所述存放料架為多層式存放料架,每一層上均設置有輸送裝置,且存放料架上具有升降機構,該升降機構位于上下料裝置的側旁。
作為一種優選方案,所述上下料裝置為多軸式機械手。
作為一種優選方案,所述上輸送槽的兩側內壁均設置有便于托盤輸送的滑輪,該上輸送機構為皮帶式輸送機構,且上輸送機構為沿上輸送槽延伸方向并排設置的多個。
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