[發明專利]銀薄膜蝕刻液組合物、蝕刻方法及金屬圖案的形成方法有效
| 申請號: | 201911102927.5 | 申請日: | 2019-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN111172542B | 公開(公告)日: | 2023-04-11 |
| 發明(設計)人: | 權五柄;李恩遠;趙現洙;金童基;南基龍;張晌勛;金相正;李原昊 | 申請(專利權)人: | 東友精細化工有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/30 | 分類號: | C23F1/30;C23F1/02 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 金成哲;宋海花 |
| 地址: | 韓國全*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜 蝕刻 組合 方法 金屬 圖案 形成 | ||
本發明提供銀薄膜蝕刻液組合物、蝕刻方法及金屬圖案的形成方法,上述銀薄膜蝕刻液組合物包含(A)銀蝕刻促進劑、(B)無機酸、(C)硫酸氫鹽和(D)水。本發明提供不發生殘渣和銀再吸附問題,防止過蝕刻而側蝕良好的效果。
技術領域
本發明涉及銀薄膜蝕刻液組合物、利用上述銀薄膜蝕刻液組合物的蝕刻方法及金屬圖案的形成方法。
背景技術
隨著真正步入信息化時代,處理及顯示大量的信息的顯示器領域發展迅速,針對于此大量的平板顯示器得到開發并受到關注。
作為這樣的平板顯示裝置的例子,可以舉出液晶顯示裝置(Liquid?crystaldisplay?device:LCD)、等離子體顯示裝置(Plasma?Display?Panel?device:PDP)、場發射顯示裝置(Field?Emission?Display?device:FED)、電致發光顯示裝置(Electroluminescence?Display?device:ELD)、有機發光顯示器(Organic?LightEmitting?Diodes:OLED)等,這樣的平板顯示裝置不僅應用于電視或錄像機等家電領域,還以多種多樣的用途應用于筆記本之類的電腦和手機等中。由于這些平板顯示裝置的薄型化、輕量化以及低耗電化等優異的性能,實際情況是,其正在快速替代以往使用的布勞恩管(陰極射線管(Cathode?Ray?Tube:CRT))。
特別是,OLED由于元件本身發光且在低電壓下也能夠驅動,因此近年來在便攜設備等小型顯示器市場得到快速應用。另外,OLED的目前狀態是從小型顯示器跨越到了大型TV的商用化。
此外,對于反射板而言,以往主要將鋁(Al)反射板用于制品,但為了通過亮度提高來實現低耗電,目前正在探索將材料變更為反射率更高的金屬。為此,想要將與應用在平板顯示裝置中的金屬相比具有更低的電阻率和更高的亮度的銀(Ag:電阻率約為1.59μΩcm)膜、銀合金或包含其的多層膜應用于濾色器的電極、LCD或OLED配線及反射板,實現平板顯示裝置的大型化和高分辨率及低耗電等,從而需要開發用于該材料的應用的蝕刻液。
然而,銀(Ag)對于玻璃等絕緣基板或者由本征非晶硅或摻雜非晶硅等構成的半導體基板等下部基板的粘接性(adhesion)極其不良而不易蒸鍍,容易誘發配線的翹起(lifting)或剝落(Peeling)。另外,在將銀(Ag)導電層蒸鍍于基板的情況下,為了將其圖案化,會使用蝕刻液。在使用以往的蝕刻液作為這樣的蝕刻液的情況下,銀(Ag)會被過度蝕刻或不均勻蝕刻而發生配線的翹起或剝落現象,配線的側面輪廓會發生不良。
另外,用于實現高分辨率的低偏斜(LOW?Skew)呈現從工序方面考慮存在困難。
特別是,銀(Ag)是容易被還原的金屬,只有蝕刻速度快才能無殘渣誘發地進行蝕刻,蝕刻后難以形成錐角(taper?angle),且不易確保蝕刻圖案的直進性,因此在形成配線和圖案時存在許多限制。此外,使用銀蝕刻液組合物進行銀薄膜蝕刻時,會發生蝕刻后的銀粒子再次吸附于基板內露出的S/D部的金屬膜的問題,該情況下,從后續工序中可能發生電短路而成為發生不良的原因的方面考慮存在問題。
與此相關,韓國公開專利第2008-0009866號等主要開發了必須使用磷酸作為主氧化劑的磷酸系銀蝕刻液組合物,但是產生由磷酸導致的下部膜損傷等磷酸系蝕刻液組合物的問題。因此,實際情況是,需要開發不包含磷酸且銀蝕刻特性優異的蝕刻液組合物,尤其需要開發能夠完全解決作為本領域的主要問題的殘渣和銀再吸附問題以及處理張數增加導致的蝕刻液組合物的性能下降問題的非磷酸系銀蝕刻液組合物。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:韓國公開專利第10-2008-0009866號
發明內容
所要解決的課題
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