[發(fā)明專利]超短焦畫幕對齊方法、裝置和超短焦投影設(shè)備及介質(zhì)

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201911094293.3
• 申請日: 2019-11-11
• 公開（公告）號: CN110798670A
• 公開（公告）日: 2020-02-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鐘波;肖適;王鑫;張立造
• 申請（專利權(quán)）人: 成都極米科技股份有限公司
• 主分類號: H04N9/31
• 分類號: H04N9/31
• 代理公司: 11227 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 王云曉

1.一種超短焦畫幕對齊方法，其特征在于，包括：

當超短焦投影機投影畫面時，利用兩個攝像頭采集到第一側(cè)投影圖、第二側(cè)投影圖；

對所述第一側(cè)投影圖、所述第二側(cè)投影圖進行圖像處理，得到投影區(qū)域的投影位置和幕布區(qū)域的幕布位置；

根據(jù)所述幕布位置、所述投影位置將所述畫面進行調(diào)整，以使調(diào)整后投影畫面的位置與目標位置重合。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超短焦畫幕對齊方法，其特征在于，所述利用兩個攝像頭采集到第一側(cè)投影圖、第二側(cè)投影圖，包括：

利用兩個所述攝像頭采集對應的同側(cè)區(qū)域的圖像，得到所述第一側(cè)投影圖和所述第二側(cè)投影圖；

或，利用兩個所述攝像頭采集對應的對側(cè)區(qū)域的圖像，得到所述第一側(cè)投影圖和所述第二側(cè)投影圖。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超短焦畫幕對齊方法，其特征在于，所述畫面是小比例特征圖，其中，所述小比例特征圖包括兩個特征圖，其中，所述小比例特征圖用于利用單應性變換得到原始尺寸圖，以便實現(xiàn)畫幕對齊。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超短焦畫幕對齊方法，其特征在于，所述特征圖是二維碼圖、條形碼圖、aruco圖中的任意一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超短焦畫幕對齊方法，其特征在于，所述當超短焦投影機投影畫面時，利用兩個攝像頭采集到第一側(cè)投影圖、第二側(cè)投影圖之前，還包括：

接收到對齊指令，其中，所述對齊指令包括聲控對齊指令。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項所述的超短焦畫幕對齊方法，其特征在于，所述根據(jù)所述幕布位置、所述投影位置將所述畫面進行調(diào)整，以使調(diào)整后投影畫面的位置與目標位置重合之后，還包括：

計算所述調(diào)整后投影畫面的位置與所述目標位置的偏差值；

判斷所述偏差值是否小于預設(shè)偏差閾值；

若小于所述預設(shè)偏差閾值，則確定對齊完成。

7.一種超短焦畫幕對齊裝置，其特征在于，包括：

投影圖獲取模塊，用于當超短焦投影機投影畫面時，利用兩個攝像頭采集到第一側(cè)投影圖、第二側(cè)投影圖；

處理模塊，用于對所述第一側(cè)投影圖、所述第二側(cè)投影圖進行圖像處理，得到投影區(qū)域的投影位置和幕布區(qū)域的幕布位置；

調(diào)整模塊，用于根據(jù)所述幕布位置、所述投影位置將所述畫面進行調(diào)整，以使調(diào)整后投影畫面的位置與目標位置重合。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超短焦畫幕對齊裝置，其特征在于，所述投影圖獲取模塊，包括：

第一投影圖獲取單元，用于利用兩個所述攝像頭采集對應的同側(cè)區(qū)域的圖像，得到所述第一側(cè)投影圖和所述第二側(cè)投影圖；

第二投影圖獲取單元，用于利用兩個所述攝像頭采集對應的對側(cè)區(qū)域的圖像，得到所述第一側(cè)投影圖和所述第二側(cè)投影圖。

9.一種超短焦投影設(shè)備，其特征在于，包括：

存儲器，用于存儲計算機程序；

處理器，用于執(zhí)行所述計算機程序時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至6任一項所述超短焦畫幕對齊方法的步驟。

10.一種計算機可讀存儲介質(zhì)，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質(zhì)上存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至6任一項所述超短焦畫幕對齊方法的步驟。