[發(fā)明專(zhuān)利]分辨率輔助圖形的篩選方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201911091909.1
• 申請(qǐng)日: 2019-11-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110673437A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 熊麗娜;劉雪強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F1/70
• 分類(lèi)號(hào): G03F1/70;G03F1/38
• 代理公司: 31237 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 曹廷廷

本發(fā)明提供一種分辨率輔助圖形的篩選方法，包括：基于規(guī)則的方式在測(cè)試版圖上的主圖形側(cè)添加分辨率輔助圖形，并將測(cè)試版圖分成不同的批次；采集各批次的測(cè)試版圖上的所述主圖形的關(guān)鍵尺寸數(shù)據(jù)及所述分辨率輔助圖形的特征尺寸數(shù)據(jù)；建立虛擬光學(xué)模型；調(diào)整虛擬光學(xué)模型的參數(shù)以使各批次測(cè)試版圖上的主圖形生成對(duì)應(yīng)的光學(xué)強(qiáng)度分布圖；根據(jù)所述光學(xué)強(qiáng)度分布圖篩選出特征尺寸符合要求的所述分辨率輔助圖形。其中，調(diào)整虛擬光學(xué)模型的參數(shù)使得主圖形生成光學(xué)強(qiáng)度分布圖，并通過(guò)分析所述光學(xué)強(qiáng)度分布圖來(lái)篩選出合適的分辨率輔助圖形，提高了采集并處理分辨率輔助圖形的特征尺寸數(shù)據(jù)的效率，減小了篩選分辨率輔助圖形的運(yùn)算量，加快了工藝研發(fā)進(jìn)度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種分辨率輔助圖形的篩選方法。

背景技術(shù)

通孔層是連接上下兩層金屬層或者是連接?xùn)艠O和金屬層的關(guān)鍵層，通孔層的工藝窗口通常為方形或長(zhǎng)方形，對(duì)于低工藝節(jié)點(diǎn)，由于存在圖形邊緣失真的光學(xué)效應(yīng)，使得掩膜版上的圖形真實(shí)曝光到晶圓上的結(jié)果為圓形或橢圓形。現(xiàn)有光刻工藝條件下，通孔層的工藝窗口比金屬層的工藝窗口小很多，其工藝窗口已經(jīng)成為影響產(chǎn)品良率的重要因素。添加SRAF(Sub-Resolution Assist Features，分辨率輔助圖形)是一種常見(jiàn)的低工藝節(jié)點(diǎn)的圖形工藝窗口增強(qiáng)方法。

傳統(tǒng)的基于規(guī)則的方式在測(cè)試版圖上的通孔圖形(主圖形)附近添加SRAF，并根據(jù)不同SRAF特征尺寸數(shù)據(jù)分批次出版若干測(cè)試版圖，在選定的光刻條件下曝光FEM(FocusExposure Matrix，聚焦曝光陣列)實(shí)驗(yàn)片，量測(cè)在不同SRAF特征尺寸數(shù)據(jù)下主圖形的FEM數(shù)據(jù)，根據(jù)實(shí)際的工藝窗口的大小來(lái)篩選具有最佳特征尺寸數(shù)據(jù)的SRAF。但是SRAF的特征尺寸數(shù)據(jù)主要包括SRAF寬度，SRAF到主圖形的距離及SRAF與SRAF之間的間隔，并且要同時(shí)考慮SRAF添加的安全性，因此在眾多批次的測(cè)試版圖中篩選特征尺寸數(shù)據(jù)符合要求的SRAF需要采集并處理龐大的SRAF特征尺寸數(shù)據(jù)，耗費(fèi)大量的人力物力及機(jī)臺(tái)資源。此外，目前還有基于模型的方式在測(cè)試版圖上添加SRAF的方法，但是基于模型的方式添加SRAF的運(yùn)算量比較大，其腳本運(yùn)行時(shí)間比基于規(guī)則的方式添加SRAF的腳本運(yùn)行時(shí)間多出近50％，而且SRAF形狀錯(cuò)綜復(fù)雜，掩膜版制作及SRAF安全性的驗(yàn)證成本及難度也會(huì)增加。

所以現(xiàn)在需要一種新的篩選SRAF的方法以解決在形成有通孔圖形的測(cè)試版圖上添加合適的SRAF時(shí)處理數(shù)據(jù)量大或者運(yùn)算量大的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種分辨率輔助圖形的篩選方法，以解決在測(cè)試版圖上添加合適的分辨率輔助圖形時(shí)處理數(shù)據(jù)量大或者運(yùn)算量大的問(wèn)題。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供一種分辨率輔助圖形的篩選方法，包括：

提供掩膜版的多個(gè)測(cè)試版圖，每個(gè)所述測(cè)試版圖上形成有主圖形；

基于規(guī)則的方式在所述主圖形側(cè)添加分辨率輔助圖形，并根據(jù)所述分辨率輔助圖形的特征尺寸數(shù)據(jù)的不同將多個(gè)測(cè)試版圖分成不同的批次；

采集各批次的所述測(cè)試版圖上的所述主圖形的關(guān)鍵尺寸數(shù)據(jù)及所述分辨率輔助圖形的特征尺寸數(shù)據(jù)；

以所述主圖形的關(guān)鍵尺寸數(shù)據(jù)及所述分辨率輔助圖形的特征尺寸數(shù)據(jù)為基礎(chǔ)建立適用于所述測(cè)試版圖的虛擬光學(xué)模型；

調(diào)整所述虛擬光學(xué)模型的光源參數(shù)或者光刻條件參數(shù)以使各批次所述測(cè)試版圖上的所述主圖形生成對(duì)應(yīng)的光學(xué)強(qiáng)度分布圖；

根據(jù)所述光學(xué)強(qiáng)度分布圖篩選合格批次的所述測(cè)試版圖以篩選出特征尺寸符合要求的所述分辨率輔助圖形。

可選的，在所述分辨率輔助圖形的篩選方法中，利用所述光學(xué)強(qiáng)度分布圖分析不同光源參數(shù)或者不同光刻條件參數(shù)下的所述主圖形的關(guān)鍵尺寸生成的不同的擬合曲線之間的誤差是否超出預(yù)設(shè)的閾值以篩選合格批次的測(cè)試版圖。