[發明專利]產品關鍵層的平均相似度計算方法及產品良率預測方法

有效

• 申請號: 201911090135.0
• 申請日: 2019-11-08
• 公開（公告）號: CN110852036B
• 公開（公告）日: 2023-06-09
• 發明（設計）人: 朱忠華;姜立維;魏芳
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: G06F30/398
• 分類號: G06F30/398;G06F115/12
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 曹廷廷

1.一種產品關鍵層的平均相似度計算方法，用于計算當前生產的產品的多個關鍵層上的圖形與歷史上生產的產品的關鍵層的圖形的平均相似度，其特征在于，包括：

抽取產品的設計版圖中的多個關鍵層；

將每個所述關鍵層拆分形成多個第一版圖中心點，所述關鍵層包括金屬層和接觸孔層，所述接觸孔層包括接觸孔，所述金屬層包括多個圖形，對抽取的接觸孔層拆分形成多個第一版圖中心點的方法包括：選取接觸孔的中心為第一版圖中心點，或者，對抽取的關鍵層拆分形成多個第一版圖中心點的方法包括：選取圖形的頂角以及頂角在相鄰圖形的邊上的投射點為第一版圖中心點；

對多個所述第一版圖中心進行聚合運算，形成第二版圖中心點，形成第二版圖中心點的方法包括：以多個第一版圖中心點，分別劃分第一正方形區域，若多個第一正方形區域有重疊，則以重疊區域的中心為第二版圖中心點，若沒有重疊區域，則將第一版圖中心點作為第二版圖中心點；

以所述第二版圖中心點為中心截取對應的圖形，形成新的產品圖形庫，以第二版圖中心點為中心截取對應的圖形，形成新的產品圖形庫的方法包括：以所述第二版圖中心點為中心點劃分多個第二正方形區域，多個所述第二正方形區域內的圖形即為劃分出的子圖形，多個子圖形組成新的產品圖形庫；

將所述新的產品圖形庫與歷史產品圖形庫做對比，獲取每層關鍵層相似度；

根據多個關鍵層的每層關鍵層相似度獲取多個關鍵層的平均相似度。

2.如權利要求1所述的產品關鍵層的平均相似度計算方法，其特征在于，所述第二正方形的邊長大于第一正方形邊長的兩倍。

3.如權利要求2所述的產品關鍵層的平均相似度計算方法，其特征在于，所述第二正方形的邊長0μm～1μm。

4.一種基于如權利要求1-3任一項所述的產品關鍵層的平均相似度計算方法的產品良率預測方法，其特征在于，包括：

選取多個產品，每個所述產品包含多個關鍵層；

分別獲取多個所述關鍵層的圖形相似度；

分別獲取每個產品的關鍵層的圖形相似度的平均值；

獲得每個產品的良率；

以平均相似度為X軸和產品的良率為Y軸以在XY坐標上標出多個點畫出良率圖；

連接兩點形成一條線使得良率圖上的點在線的同一側，線的解析式為y＝ax+b，其中：x為關鍵層圖形相似度，y為預測的良率，a為斜率，b為軸截距。

5.如權利要求4的一種產品良率預測方法，其特征在于，所述產品的良率預測方法還包括：通過產品相似度和解析式y＝ax+b得到預測的良率。