[發(fā)明專利]一種嵌入式封裝模塊化制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911085676.4 | 申請(qǐng)日: | 2019-11-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112786455A | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉旭;葉懷宇;張衛(wèi)紅;張國旗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳第三代半導(dǎo)體研究院 |
| 主分類號(hào): | H01L21/50 | 分類號(hào): | H01L21/50;H01L21/56;H01L23/367;H01L25/16 |
| 代理公司: | 北京中知法苑知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11226 | 代理人: | 閻冬 |
| 地址: | 518055 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 嵌入式 封裝 模塊化 制備 方法 | ||
1.一種嵌入式封裝模塊化制備方法,其特征在于,包括:
S1:將芯片和元器件壓入第一材料中,制備第一預(yù)制件,所述第一預(yù)制件包括間隔連接的至少兩個(gè)第一材料區(qū)及至少一個(gè)芯片及至少一個(gè)元器件;
S2:在每個(gè)第一材料區(qū)設(shè)置至少兩個(gè)第一通孔,在所述設(shè)置第一通孔的第一預(yù)制件上設(shè)置導(dǎo)電連接,形成第一基板;
S3:將至少一個(gè)多層板材壓入第二材料中,制備第二預(yù)制件;所述多層板材包括從上至下設(shè)置的第一金屬層、絕緣層、第二金屬層;
S4:在第二預(yù)制件上設(shè)置導(dǎo)電連接,形成第二基板;
S5:由上至下放置第二基板,第一基板,第二基板,壓合獲得嵌入式封裝器件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的嵌入式封裝模塊化制備方法,其特征在于,所述第一金屬層及第二金屬層材料為銅,所述絕緣層材料為陶瓷;所述第一材料及第二材料為半固化片或FR4材料或BT材料或EMC材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的嵌入式封裝模塊化制備方法,其特征在于,所述芯片和元器件壓入第一材料中的方法為:
根據(jù)芯片和元器件尺寸在第一材料內(nèi)打至少一個(gè)第三通孔,將至少一個(gè)芯片和至少一個(gè)元器件嵌入第一材料,控制溫度及壓力,使第一材料與嵌入其中的芯片和元器件固化成型;
將至少一個(gè)多層板材壓入第二材料中的方法為:
根據(jù)至少一個(gè)多層板材尺寸在第二材料內(nèi)打至少一個(gè)第四通孔,將至少一個(gè)多層板材嵌入第二材料,控制溫度及壓力,使第二材料與嵌入其中的多層板材固化成型。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的嵌入式封裝模塊化制備方法,其特征在于,所述芯片和元器件壓入第一材料中的方法為:
融化第一材料,采用融化的第一材料包裹至少一個(gè)芯片和至少一個(gè)元器件,固化形成第一預(yù)制件;
將至少一個(gè)多層板材壓入第二材料中的方法為:
融化第二材料,采用融化的第一材料包裹至少多層板材,固化形成第二預(yù)制件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的嵌入式封裝模塊化制備方法,其特征在于,制備至少一個(gè)第一通孔的方法包括:激光鉆孔、機(jī)械鉆孔、蝕刻。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的嵌入式封裝模塊化制備方法,其特征在于,所述設(shè)置導(dǎo)電連接的方法為:在第一通孔內(nèi)設(shè)置導(dǎo)電金屬;在第一預(yù)制件的上下表面及第二預(yù)制件的上表面或下表面設(shè)置鍍層;在所述鍍層上制造預(yù)設(shè)圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的嵌入式封裝模塊化制備方法,其特征在于,在第一通孔內(nèi)壁或第一通孔內(nèi)全部區(qū)域填充金屬銅,或在第一通孔內(nèi)設(shè)置多個(gè)與所述第一通孔尺寸相同的銅柱。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的嵌入式封裝模塊化制備方法,其特征在于,所述S5包括:將由上至下放置第二基板,至少一個(gè)第一半固化片,第一基板,至少一個(gè)第二半固化片,第二基板;壓合上述結(jié)構(gòu),形成嵌入式封裝器件;所述第一半固化片及所述第二半固化片上根據(jù)第一基板及第二基板位置設(shè)置至少一個(gè)通孔。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳第三代半導(dǎo)體研究院,未經(jīng)深圳第三代半導(dǎo)體研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201911085676.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





