[發明專利]鍍膜生產線控制方法

有效

• 申請號: 201911082246.7
• 申請日: 2019-11-07
• 公開（公告）號: CN110735123B
• 公開（公告）日: 2022-10-18
• 發明（設計）人: 祝海生;陳立;唐洪波;唐蓮;薛闖;金誠明;凌云;孫桂紅;梁紅;黃國興;黃樂
• 申請（專利權）人: 湘潭宏大真空技術股份有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/54;C23C14/34
• 代理公司: 湖南喬熹知識產權代理事務所(普通合伙) 43262
• 代理人: 安曼

本發明公開了一種鍍膜生產線控制方法，方法應用到上位機中，傳送流水線和鍍膜生產線首尾相連形成一環形流水線，上位機與傳送流水線以及鍍膜生產線相通信連接，以通過上位機對所述傳送流水線和所述鍍膜生產線進行控制，上述方法可以實時檢測基片的位置，并根據基片的位置對整個鍍膜生產線各個腔室的真空范圍進行調節，此外還可以對基片的傳動速度進行調節，從而可以對整個生產線進行控制，進而保證了鍍膜的準確性。形成一環形流水線，節約占地面積，整個鍍膜生產線中基片傳送采用智能控制，節約人力物力，提供生產效率，鍍膜流水線中各腔室依據產品需求更換或增加，整條鍍膜生產線適應多種鍍膜工藝要求，使用壽命延長，節約資源。

技術領域

本發明涉及一種鍍膜生產線控制方法，屬于電氣控制領域。

背景技術

真空鍍膜技術初現于20世紀30年代，四五十年代開始出現工業應用，工業化大規模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾燈許多優于固體材料本身的優越性能，達到提高產品質量、延長產品壽命、節約能源和獲得顯著技術經濟效益的作用。需要鍍膜的產品被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。

為了減少工藝的復雜性，鍍膜生產線中的各腔室空間狹小，僅能容基片架穿過，基片架在各腔室中通過安裝在各腔室的傳動機構傳送，但是傳統工藝中需要專業人員時刻關注生產線，且在手動進行操作，以便于生產線上的各個工藝及時進行，智能化水平不夠。

發明內容

針對現有技術存在的上述問題，本發明的目的是提供一種能夠提高智能化水平的鍍膜生產線控制方法。

為實現上述發明目的，本發明采用的技術方案如下：

一種鍍膜生產線控制方法，所述方法應用到上位機中，傳送流水線和鍍膜生產線首尾相連形成一環形流水線，上位機與傳送流水線以及鍍膜生產線相通信連接，以通過所述上位機對所述傳送流水線和所述鍍膜生產線進行控制，所述方法包括：

檢測進口室內是否傳入基片，當所述進口室傳入基片時，則通過真空泵將所述生產線上各個腔室抽真空至中真空范圍，并將所述基片傳送入進口緩沖室；

檢測進口緩沖室是否傳入基片，當所述進口緩沖室傳入基片時，則對所述基片進行加熱，并將所述基片傳送至進口過渡室；

檢測進口過渡室是否傳入基片，當所述進口過渡室傳入基片時，則對所述基片進行加熱，并通過真空泵和分子泵對所述進口過渡室以及所述生產線后續的預設腔室進行抽真空至高真空范圍，并將所述基片傳送至清洗室；

檢測清洗室是否傳入基片，當所述清洗室傳入基片時，則啟動等離子設備對所述基片進行清洗，并控制傳送基片的傳動輥的運行模式從間斷模式轉變為連續模式，將所述基片依次傳入至多個鍍膜工藝室，且多個鍍膜工藝室之間至少設置一個隔離室；

檢測出口過渡室是否傳入基片，當出口過渡室傳入基片時，則控制傳送基片的傳動輥的運行模式從連續模式轉變為間斷模式，并將真空范圍由高真空范圍降低至中真空后，將所述基片傳送至出口緩沖室；

檢測出口緩沖室是否傳入基片，當出口緩沖室傳入基片時，則將真空范圍由中真空范圍降低至低真空后，將所述基片傳送至出口室；

檢測出口室是否傳入基片，當出口室傳入基片時，則將真空范圍由低真空范圍降低至大氣狀態后，開啟閥門將所述基片送出所述出口室。

在其中一個實施例中，所述將所述基片依次傳入至多個鍍膜工藝室，包括：

實時檢測所述基片當前所在的鍍膜工藝室，并查詢與所述鍍膜工藝室對應的基片的傳輸速度；

通過所述基片的傳輸速度調整所述傳動輥的運行。