[發明專利]顯示基板及其制備方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 201911081324.1 | 申請日: | 2019-11-07 |
| 公開(公告)號: | CN110783275B | 公開(公告)日: | 2022-12-09 |
| 發明(設計)人: | 韓林宏;張毅;秦世開 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/84 | 分類號: | H01L21/84;H01L21/28;H01L27/12;H01L29/417 |
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| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
本發明實施例提供一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置,該顯示基板的制備方法,包括:形成襯底,所述襯底包括顯示區域和彎折區域;在所述襯底之上形成無機層;在所述顯示區域的無機層之上形成源漏極層;在所述彎折區域的無機層中形成凹槽;該顯示基板的制備方法能夠解決凹槽中金屬薄膜層的殘留問題,避免數據信號線之間短路。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,具體涉及一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置。
背景技術
顯示屏隨著尺寸的增加,以及對于顯示性能的要求的提高,現有的單層源漏層有時候無法滿足需求,需引入兩層源漏層(以下簡稱雙源漏層產品)。源漏層不僅充當陣列基板源漏的作用,也作為顯示屏的數據信號線和電源線等別的電信號。基板彎曲技術對于現如今的顯示屏起到了很大的作用,將數據信號線彎折到顯示屏背部,從而極大地減小顯示屏的邊框?,F有的雙源漏層產品,第一源漏層作為彎折區的數據信號線,用于連接顯示區域和供電區域?,F有的雙源漏層的制備方法一般先在襯底的無機層中形成凹槽,再在凹槽之上沉積第一金屬薄膜,將第一金屬薄膜刻蝕形成數據信號線。這種制備方式需要在凹槽內刻蝕第一金屬薄膜,容易在凹槽內產生金屬殘留,造成信號之間短路,影響顯示效果。
發明內容
本發明實施例所要解決的技術問題是,提供一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置,該顯示基板的制備方法能夠解決彎折區域凹槽中金屬薄膜層的殘留問題,避免數據信號線之間短路。
為了解決上述技術問題,本發明實施例提供了一種顯示基板的制備方法,包括:
形成襯底,所述襯底包括顯示區域、供電區域以及將所述顯示區域和所述供電區域連接的彎折區域;
在所述襯底之上形成無機層;
在所述無機層之上形成第一金屬薄膜層;
將所述彎折區域之上的第一金屬薄膜層去除,露出所述彎折區域之上的無機層;
在所述彎折區域之上的無機層中形成凹槽。
可選地,在所述彎折區域之上的無機層中形成凹槽之后,還包括:
在所述凹槽內形成平坦層;
在所述平坦層之上形成第二金屬薄膜層;
將所述第二金屬薄膜層形成用于連接所述顯示區域和所述供電區域的數據信號線。
可選地,所述數據信號線位于所述凹槽的中部。
可選地,所述平坦層為有機材料。
可選地,在所述襯底之上形成無機層包括:
在所述襯底之上依次形成阻擋層、緩沖層、絕緣層以及層間介電層,其中,所述阻擋層、所述緩沖層、所述絕緣層以及所述層間介電層形成所述無機層。
可選地,在所述無機層之上形成第一金屬薄膜層之后,還包括:
將所述顯示區域之上的第一金屬薄膜層形成源漏極層。
可選地,在所述彎折區域之上的無機層中形成凹槽包括:
通過第一次構圖工藝在所述彎折區域的無機層中形成第一凹槽;
通過第二次構圖工藝在所述第一凹槽的無機層中形成第二凹槽,所述第二凹槽的開口面積小于所述第一凹槽的開口面積。
可選地,在所述彎折區域之上的無機層中形成凹槽包括:
通過一次構圖工藝在所述彎折區域的無機層中形成所述凹槽。
本發明實施例還提供了一種顯示基板,該顯示基板由前述的顯示基板的制備方法制備而成
本發明實施例還提供了一種顯示裝置,包括前述的顯示基板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





