[發(fā)明專利]氮化鎵HEMT的封裝結(jié)構(gòu)及封裝方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911071736.7 | 申請(qǐng)日: | 2019-11-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112768427A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-05-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 莫錦添;鄒艷波;盛健健;姚衛(wèi)剛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 英諾賽科(珠海)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/495 | 分類號(hào): | H01L23/495;H01L23/31;H01L21/48 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 張靜 |
| 地址: | 519080 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氮化 hemt 封裝 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
1.一種氮化鎵HEMT的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述封裝結(jié)構(gòu)包括:
待封裝氮化鎵HEMT芯片,所述待封裝氮化鎵HEMT芯片的正面具有柵極、源極以及漏極;所述柵極位于所述源極以及所述漏極之間;
導(dǎo)電基盤,所述導(dǎo)電基盤具有用于固定所述待封裝氮化鎵HEMT芯片的散熱區(qū)和基盤引腳區(qū);
引線框架,所述引線框架上設(shè)置有第一導(dǎo)電焊盤、第二導(dǎo)電焊盤以及第三導(dǎo)電焊盤;所述導(dǎo)電基盤與所述引線框架相對(duì)固定;
其中,所述第一導(dǎo)電焊盤位于所述待封裝氮化鎵HEMT芯片具有所述漏極的一側(cè),所述第二導(dǎo)電焊盤以及所述第三導(dǎo)電焊盤位于所述待封裝氮化鎵HEMT芯片具有所述源極的一側(cè);所述待封裝氮化鎵HEMT芯片的背面與所述散熱區(qū)固定且電連接;所述漏極通過(guò)第一電連接部件與所述第一導(dǎo)電焊盤電連接,所述源極通過(guò)第二電連接部件與所述基盤引腳區(qū)電連接,所述柵極通過(guò)第三電連接部件與所述第三導(dǎo)電焊盤電連接,且所述源極還通過(guò)第四電連接部件與所述第二導(dǎo)電焊盤電連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述基盤引腳區(qū)、所述第一導(dǎo)電焊盤、所述第二導(dǎo)電焊盤以及所述第三導(dǎo)電焊盤均包括焊接區(qū)以及和所述焊接區(qū)一體的引腳;
其中,所述第一導(dǎo)電焊盤、所述第二導(dǎo)電焊盤以及所述第三導(dǎo)電焊盤的焊接區(qū)和所述引腳連接處均具有彎折部,使得所述焊接區(qū)高于所述引腳。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一導(dǎo)電焊盤通過(guò)至少一根所述第一電連接部件與所述漏極電連接;
所述第一導(dǎo)電焊盤包括:漏極焊接區(qū)以及和所述漏極焊接區(qū)一體的至少一個(gè)漏極引腳;
其中,所述漏極焊接區(qū)通過(guò)所述第一電連接部件與所述漏極電連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述基盤引腳區(qū)通過(guò)至少一根所述第二電連接部件與所述源極電連接,所述第二導(dǎo)電焊盤通過(guò)一根所述第四電連接部件與所述源極電連接;
所述基盤引腳區(qū)包括:源極焊接區(qū)以及和所述源極焊接區(qū)一體的至少一個(gè)源極引腳;其中,所述源極焊接區(qū)通過(guò)所述第二電連接部件與所述源極電連接;
所述第二導(dǎo)電焊盤包括:開(kāi)爾文源極焊接區(qū)和一個(gè)開(kāi)爾文源極;其中,所述開(kāi)爾文源極焊接區(qū)通過(guò)所述第四電連接部件與所述源極電連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第三導(dǎo)電焊盤通過(guò)一根所述第三電連接部件與所述柵極電連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第三導(dǎo)電焊盤包括:柵極焊接區(qū)和一個(gè)柵極引腳;
其中,所述柵極焊接區(qū)通過(guò)所述第三電連接部件與所述柵極電連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述待封裝氮化鎵HEMT芯片的背面通過(guò)軟焊料與所述散熱區(qū)固定。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括:對(duì)所述待封裝氮化鎵HEMT芯片進(jìn)行密封保護(hù)的封裝層,所述封裝層覆蓋所述待封裝氮化鎵HEMT芯片以及各電連接部件。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述封裝層為環(huán)氧樹(shù)脂層。
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