[發(fā)明專利]掩膜框架組件以及采用該掩膜框架組件的沉積裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911069137.1 | 申請日: | 2019-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN111534786A | 公開(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 安鼎鉉;文在皙;李丞賑 | 申請(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/50;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 李盛泉;劉燦強 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 框架 組件 以及 采用 沉積 裝置 | ||
本發(fā)明的一實施例公開一種掩膜框架組件以及采用該掩膜框架組件的沉積裝置,所述掩膜框架組件包括:掩膜,配備有用于沉積的圖案區(qū)域;以及框架,以層疊有相對強磁性層和相對弱磁性層的包覆結(jié)構(gòu)來支撐掩膜。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種使用于沉積作業(yè)的掩膜框架組件以及采用該掩膜框架組件的沉積裝置。
背景技術(shù)
一般,有機發(fā)光顯示裝置利用從陽極和陰極注入的空穴和電子在發(fā)光層中復(fù)合而發(fā)光的原理可以呈現(xiàn)顏色,其中,由在作為陽極的像素電極和作為陰極的對向電極之間插入有發(fā)光層的結(jié)構(gòu)構(gòu)成像素。
各個所述像素可以成為例如紅色像素、綠色像素以及藍色像素中的任意一個的子像素(sub pixel),并且可以通過這3種顏色的子像素的顏色組合顯示出期望的顏色。即,各個子像素都具有在兩個電極之間夾設(shè)有發(fā)出紅色、綠色以及藍色中的任意一種顏色的光的發(fā)光層的結(jié)構(gòu),并且通過這3種顏色的光的恰當?shù)慕M合顯示出一個單位像素的顏色。
如上所述的有機發(fā)光顯示裝置的電極和發(fā)光層等可以通過沉積來形成。即,將具有與期望形成的薄膜層的圖案相同的圖案孔的掩膜排列在基板上,并通過該掩膜的圖案孔而將薄膜的原材料沉積到基板,從而形成期望的圖案的薄膜。
所述掩膜與支撐其端部的框架以及將所述圖案孔劃分為多個單位單元格圖案的長邊棒一起大多以掩膜框架組件的形態(tài)使用,并在進行沉積作業(yè)時以磁體的磁力將掩膜緊貼到基板。即,使磁體朝向與掩膜接觸的基板表面的相反側(cè)的表面靠近,從而使磁力發(fā)揮作用為使掩膜緊貼到基板,然后進行沉積。
并且,如果針對一個基板的沉積結(jié)束,則移開磁體并將基板更換為另一個,然后再將掩膜框架組件緊貼到更換后的新的基板,進而進行下一個沉積作業(yè)。
發(fā)明內(nèi)容
然而,如果作用在所述掩膜框架組件的磁力過強,則為了更換基板而移開磁體時有可能發(fā)生如下問題:掩膜框架組件由于該磁力而一起被牽引,從而位置會一點一點地偏離。即,掩膜框架組件需要持續(xù)維持在相同的位置,以便更換基板也能夠始終沉積在相同的位置,但如果像這樣位置發(fā)生偏離,則無法對下一個基板執(zhí)行準確的沉積。
但如果因此而使用磁力較弱的磁體,則掩膜和基板之間有可能會翹起而無法令人滿意地緊貼,并且容易發(fā)生在該翹起部位發(fā)生嚴重的過沉積的所謂冰柱不良,或者連原本意圖的沉積區(qū)域的外廓也發(fā)生沉積的所謂陰影(Shadow)不良。即,如果作用在掩膜框架組件的磁力過大,則會在更換基板時發(fā)生位置變動而發(fā)生沉積不良,磁力過小則會由于基板和掩膜之間的緊貼力變?nèi)醵l(fā)生沉積不良。
因此,本發(fā)明的實施例提供一種改善成不降低如上所述的掩膜和基板之間的緊貼力的情況下也可以抑制更換基板時的掩膜框架組件的位置變動的掩膜框架組件以及采用該掩膜框架組件的沉積裝置。
本發(fā)明的實施例提供一種掩膜框架組件,其中,包括框架和掩膜,所述掩膜結(jié)合于所述框架并具備有用于基板上的沉積的圖案區(qū)域,所述框架包括層疊有相對強磁性層和相對弱磁性層的包覆結(jié)構(gòu)體。
所述強磁性層可以包含因瓦合金(INVAR)材料,所述弱磁性層包含不銹鋼材料。
所述掩膜可以結(jié)合在所述弱磁性層。
所述掩膜可以具有相對強于所述弱磁性層的磁性。
所述掩膜框架組件,其中,還可以包括:長邊棒,結(jié)合于所述框架而將所述掩膜的圖案區(qū)域劃分為單位單元格圖案。
并且,本發(fā)明的實施例提供一種沉積裝置,其中,包括:掩膜框架組件,包括框架和掩膜,所述掩膜結(jié)合于所述框架并具備有用于基板上的沉積的圖案區(qū)域;磁體,向所述掩膜框架組件施加磁力而使所述掩膜緊貼在所述基板;所述框架包括層疊有相對強磁性層和相對弱磁性層的包覆結(jié)構(gòu)體。
所述強磁性層可以包含因瓦合金(INVAR)材料,所述弱磁性層包含不銹鋼材料。
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