[發明專利]掩膜框架組件以及采用該掩膜框架組件的沉積裝置在審
| 申請號： | 201911069137.1 | 申請日： | 2019-11-05 |
| 公開（公告）號： | CN111534786A | 公開（公告）日： | 2020-08-14 |
| 發明（設計）人： | 安鼎鉉;文在皙;李丞賑 | 申請（專利權）人： | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/50;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人： | 李盛泉;劉燦強 |
| 地址： | 韓國京畿*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 框架 組件 以及 采用 沉積 裝置 | ||
1.一種掩膜框架組件，其中，包括框架和掩膜，所述掩膜結合于所述框架并具備有用于基板上的沉積的圖案區域，
所述框架包括層疊有相對強磁性層和相對弱磁性層的包覆結構體。
2.如權利要求1所述的掩膜框架組件，其中，
所述強磁性層包含因瓦合金材料，所述弱磁性層包含不銹鋼材料。
3.如權利要求1所述的掩膜框架組件，其中，
所述掩膜結合在所述弱磁性層。
4.如權利要求1所述的掩膜框架組件，其中，
所述掩膜具有相對強于所述弱磁性層的磁性。
5.如權利要求1所述的掩膜框架組件，其中，還包括：
長邊棒，結合于所述框架而將所述掩膜的圖案區域劃分為單位單元格圖案。
6.一種沉積裝置，其中，包括：
掩膜框架組件，包括框架和掩膜，所述掩膜結合于所述框架并具備有用于基板上的沉積的圖案區域；
磁體，向所述掩膜框架組件施加磁力而使所述掩膜緊貼在所述基板；
所述框架包括層疊有相對強磁性層和相對弱磁性層的包覆結構體。
7.如權利要求6所述的沉積裝置，其中，
所述強磁性層包含因瓦合金材料，所述弱磁性層包含不銹鋼材料。
8.如權利要求6所述的沉積裝置，其中，
所述磁體布置為中間隔著所述基板而與所述掩膜框架組件對向，所述掩膜結合在所述框架的所述弱磁性層。
9.如權利要求6所述的沉積裝置，其中，
所述掩膜具有相對強于所述弱磁性層的磁性。
10.如權利要求6所述的沉積裝置，其中，
所述掩膜框架組件還包括：長邊棒，結合在所述框架，將所述掩膜的圖案區域劃分為單位單元格圖案。
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