[發(fā)明專利]加氫裂化催化劑及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911042806.6 | 申請日： | 2019-10-30 |
| 公開（公告）號： | CN112742440B | 公開（公告）日： | 2023-08-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 毛以朝;龍湘云;楊清河;張潤強(qiáng);趙陽;趙廣樂 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司石油化工科學(xué)研究院 |
| 主分類號： | B01J29/00 | 分類號： | B01J29/00;B01J29/80;B01J29/48;B01J29/16;B01J29/85;B01J35/10;C10G47/20;C01B39/54;C01B37/08 |
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| 地址： | 100728 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 加氫裂化催化劑 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種加氫裂化催化劑，其特征在于，以催化劑的干基重量為基準(zhǔn)，該催化劑包括以干基重量計(jì)的45~90重量%的載體，以金屬氧化物計(jì)的1~40重量%的第一金屬組分，和以金屬氧化物計(jì)的1~15重量%的第二金屬組分；
所述載體包括含磷高硅分子篩、MFI分子篩和耐熱無機(jī)氧化物，所述含磷高硅分子篩、MFI分子篩和耐熱無機(jī)氧化物的重量比為1：（0.03~20）：（0.03~20）；所述第一金屬組分選自第VIB族金屬；所述第二金屬組分選自第VIII族金屬；
以氧化物計(jì)并以分子篩的干基重量為基準(zhǔn)，所述含磷高硅分子篩的硅含量為90~99.8重量%，鋁含量為0.3~3.0重量%，磷含量為0.01~1.6重量%；所述含磷高硅分子篩的XRD譜圖中，第一強(qiáng)峰的衍射角位置在5.9~6.9°，第二強(qiáng)峰的衍射角位置在10.0~11.0°，第三強(qiáng)峰的衍射角位置在15.6~16.7°。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的催化劑，其中，所述含磷高硅分子篩的孔容為0.20~0.50ml/g，比表面積為260~600m2/g。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的催化劑，其中，所述含磷高硅分子篩的XRD譜圖中，第一強(qiáng)峰的衍射角位置在6.1~6.8°，第二強(qiáng)峰的衍射角位置在10.2~10.7°，第三強(qiáng)峰的衍射角位置在15.8~16.5°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任意一項(xiàng)所述的催化劑，其中，所述含磷高硅分子篩的XRD譜圖中，I1/I23.5~24.5°為3.0~11.0，I2/I23.5~24.5°為2.9~7.0，I3/I23.5~24.5°為1.0~4.0，其中，I1為所述第一強(qiáng)峰的峰高，I2為所述第二強(qiáng)峰的峰高，I3為所述第三強(qiáng)峰的峰高，I23.5~24.5°為衍射角位置為23.5~24.5°的衍射角峰的峰高。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任意一項(xiàng)所述的催化劑，其中，所述含磷高硅分子篩的XRD譜圖中，第四強(qiáng)峰的衍射角位置在20.4~21.6°，第五強(qiáng)峰的衍射角位置在11.8~12.8°。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的催化劑，其中，所述含磷高硅分子篩的XRD譜圖中，第四強(qiáng)峰的衍射角位置在20.8~21.4°，第五強(qiáng)峰的衍射角位置在12.1~12.6°；和/或，
I4/I23.5~24.5°為1.0~4.0，I5/I23.5~24.5°為1.0~2.0，其中，I4為所述第四強(qiáng)峰的峰高，I5為所述第五強(qiáng)峰的峰高，I23.5~24.5°為衍射角位置為23.5~24.5°的衍射角峰的峰高。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的催化劑，其中，所述MFI分子篩選自ZRP、ZSP、ZSM-5分子篩中的一種或者數(shù)種，所述分子篩的硅鋁比為20~120，比表面積為200~650米2/克，孔容為0.20~0.75毫升/克。
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