[發(fā)明專利]影像傳感器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911042630.4 | 申請日: | 2019-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN112530983A | 公開(公告)日: | 2021-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鐘志平;何明祐;畢嘉慧 | 申請(專利權(quán))人: | 力晶積成電子制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 影像 傳感器 | ||
1.一種影像傳感器,其特征在于,包括:
基底,具有相對的第一面與第二面;
第一柵極,設(shè)置在所述第一面的所述基底上;
感光元件,位于所述第一柵極的一側(cè)的所述基底中;
存儲節(jié)點(diǎn),位于所述第一柵極的另一側(cè)的所述基底中;
至少一個第一反光層,設(shè)置在所述基底中,且位于所述存儲節(jié)點(diǎn)的周圍;
第二反光層,在所述第一面遮蔽所述存儲節(jié)點(diǎn),且電連接至所述至少一個第一反光層;以及
第三反光層,在所述第二面遮蔽所述存儲節(jié)點(diǎn),且電連接至所述至少一個第一反光層。
2.如權(quán)利要求1所述的影像傳感器,其中所述至少一個第一反光層從所述第一面延伸至所述第二面。
3.如權(quán)利要求1所述的影像傳感器,其中所述第二反光層共形地設(shè)置在所述第一面。
4.如權(quán)利要求1所述的影像傳感器,其中所述至少一個第一反光層的材料包括摻雜多晶硅或金屬,所述第二反光層的材料包括金屬或摻雜多晶硅,且所述第三反光層的材料包括摻雜多晶硅或金屬。
5.如權(quán)利要求1所述的影像傳感器,其中所述影像傳感器為背照式影像傳感器,所述第二反光層在所述第一面還遮蔽所述感光元件,且所述第三反光層具有暴露出所述感光元件的開口。
6.如權(quán)利要求1所述的影像傳感器,還包括:
至少一個第四反光層,設(shè)置在所述基底中,且位于所述感光元件的周圍。
7.如權(quán)利要求6所述的影像傳感器,還包括:
第一介電層,位于所述至少一個第一反光層與所述基底之間;
第二介電層,位于所述第二反光層與所述基底之間;
第三介電層,位于所述第三反光層與所述基底之間;以及
第四介電層,位于所述第四反光層與所述基底之間。
8.如權(quán)利要求1所述的影像傳感器,還包括:
第五反光層,設(shè)置在所述第三反光層上。
9.如權(quán)利要求1所述的影像傳感器,還包括:
隔離結(jié)構(gòu),設(shè)置在所述基底中,且圍繞部分所述至少一個第一反光層。
10.如權(quán)利要求1所述的影像傳感器,還包括:
第二柵極,設(shè)置在所述第一面的所述基底上,且位于所述存儲節(jié)點(diǎn)的遠(yuǎn)離所述第一柵極的一側(cè);
第三柵極,設(shè)置在所述第一面的所述基底上,且位于所述第二柵極的遠(yuǎn)離所述存儲節(jié)點(diǎn)的一側(cè);
第一柵介電層,位于所述第一柵極與所述基底之間;
第二柵介電層,位于所述第二柵極與所述基底之間;以及
第三柵介電層,位于所述第三柵極與所述基底之間。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





