[發明專利]陣列透鏡、透鏡天線和電子設備有效
| 申請號: | 201911040057.3 | 申請日: | 2019-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN110943278B | 公開(公告)日: | 2021-06-25 |
| 發明(設計)人: | 楊帆 | 申請(專利權)人: | OPPO廣東移動通信有限公司 |
| 主分類號: | H01Q1/22 | 分類號: | H01Q1/22;H01Q1/24;H01Q1/27;H01Q15/10;H01Q19/06 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 熊文杰 |
| 地址: | 523860 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 透鏡 透鏡天線 電子設備 | ||
本申請涉及一種陣列透鏡、透鏡天線和電子設備,陣列透鏡包括:至少一介質層;至少兩層陣列結構,介質層與陣列結構沿第一方向交替層疊設置;每一層陣列結構包括金屬本體,金屬本體上開設有多個呈陣列設置的鏤空槽,每個鏤空槽中內置有與金屬本體隔離的陣列單元,至少兩層陣列結構位于同一相對位置的多個陣列單元在第一方向上同軸設置;其中,同一陣列結構中,多個鏤空槽中的陣列單元在至少一個陣列方向上具有相對于陣列方向漸變的相對旋轉角度;可對不同頻段的相位分布進行補償,能對電磁波進行匯聚,可使得該陣列透鏡在更寬的頻率范圍內焦平面保持不變,大大減小偏焦波束增益的降幅,大幅提高透鏡天線的掃描角度,覆蓋范圍大。
技術領域
本申請涉及天線技術領域,特別是涉及一種陣列透鏡、透鏡天線和電子設 備。
背景技術
透鏡天線,一種能夠通過電磁波,將點源或線源的球面波或柱面波轉換為 平面波從而獲得筆形、扇形或其他形狀波束的天線。通過合適設計透鏡表面形 狀和折射率,調節電磁波的相速以獲得輻射口徑上的平面波前。一般的透鏡天 線通常掃描角度有限,不利于覆蓋較大范圍。
發明內容
本申請實施例提供一種陣列透鏡、透鏡天線和電子設備,可以大大減小偏 焦波束增益的降幅,提高透鏡天線的掃描角度,覆蓋范圍大。
一種陣列透鏡,包括:
至少一介質層;
至少兩層陣列結構,所述介質層與所述陣列結構沿第一方向交替層疊設置; 每一層所述陣列結構包括金屬本體,所述金屬本體上開設有多個呈陣列設置的 鏤空槽,每個所述鏤空槽中內置有與所述金屬本體隔離的陣列單元,所述至少 兩層陣列結構位于同一相對位置的多個所述陣列單元在所述第一方向上同軸設 置;
其中,同一所述陣列結構中,所述多個鏤空槽中的陣列單元在至少一個陣 列方向上具有相對于所述陣列方向漸變的相對旋轉角度。
此外,還提供一種透鏡天線,包括上述的陣列透鏡和與所述陣列透鏡平行 設置的饋源陣列。
此外,還提供一種電子設備,包括上述的透鏡天線。
上述陣列透鏡、透鏡天線和電子設備,包括至少一介質層;至少兩層陣列 結構,所述介質層與所述陣列結構沿第一方向交替層疊設置;每一層所述陣列 結構包括金屬本體,所述金屬本體上開設有多個呈陣列設置的鏤空槽,每個所 述鏤空槽中內置有與所述金屬本體隔離的陣列單元,所述至少兩層陣列結構位 于同一相對位置的多個所述陣列單元在所述第一方向上同軸設置;其中,同一 所述陣列結構中,所述多個鏤空槽中的陣列單元在至少一個陣列方向上具有相 對于所述陣列方向漸變的相對旋轉角度,可對不同頻段的相位分布進行補償, 能對電磁波進行匯聚,可使得該陣列透鏡在更寬的頻率范圍內焦平面保持不變, 大大減小偏焦波束增益的降幅,大幅提高透鏡天線的掃描角度。
附圖說明
為了更清楚地說明本申請實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施 例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述 中的附圖僅僅是本申請的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付 出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為一個實施例中電子設備的立體圖;
圖2為一實施例中陣列透鏡的結構示意圖;
圖3為一實施例中陣列透鏡的結構示意圖;
圖4為一實施例中陣列透鏡的結構示意圖;
圖5為一實施例中陣列透鏡的結構示意圖;
圖6為一實施例中陣列透鏡的結構示意圖;
圖7為一實施例中陣列透鏡的結構示意圖;
圖8為一實施例中陣列透鏡的結構示意圖;
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