[發明專利]陣列透鏡、透鏡天線和電子設備

有效

• 申請號: 201911040057.3
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN110943278B
• 公開（公告）日: 2021-06-25
• 發明（設計）人: 楊帆
• 申請（專利權）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: H01Q1/22
• 分類號: H01Q1/22;H01Q1/24;H01Q1/27;H01Q15/10;H01Q19/06
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 熊文杰

1.一種陣列透鏡，其特征在于，包括：

至少一介質層；

至少兩層陣列結構，所述介質層與所述陣列結構沿第一方向交替層疊設置；每一層所述陣列結構包括金屬本體，所述金屬本體上開設有多個分離且呈陣列設置的鏤空槽，每個所述鏤空槽中內置有與所述金屬本體隔離的陣列單元，所述至少兩層陣列結構位于同一相對位置的多個所述陣列單元在所述第一方向上同軸設置；

其中，同一所述陣列結構中，所述多個鏤空槽中的陣列單元在至少一個陣列方向上具有相對于所述陣列方向漸變的相對旋轉角度，當電磁波沿所述第一方向入射至所述陣列透鏡時，所述陣列透鏡能夠對所述電磁波進行匯聚。

2.根據權利要求1所述的陣列透鏡，其特征在于，每一層所述陣列結構中的多個所述鏤空槽呈二維陣列，所述二維陣列的陣列方向包括行方向和列方向，同一所述陣列結構中，所述多個鏤空槽中的所述陣列單元在所述行方向上具有漸變的相對旋轉角度。

3.根據權利要求2所述的陣列透鏡，其特征在于，同一所述陣列結構中，所述多個鏤空槽中的陣列單元在所述行方向的相對旋轉角度由所述二維陣列的第一中心線向陣列邊緣對稱增加，且在所述列方向的相對旋轉角度相同。

4.根據權利要求2所述的陣列透鏡，其特征在于，同一所述陣列結構中，所述多個鏤空槽中的陣列單元在所述列方向上具有漸變的相對旋轉角度。

5.根據權利要求4所述的陣列透鏡，其特征在于，同一所述陣列結構中，所述多個鏤空槽中的陣列單元在所述行方向的所述相對旋轉角度由所述二維陣列的第一中心線向陣列邊緣對稱增加，在所述列方向的所述相對旋轉角度由所述二維陣列的第二中心線向陣列邊緣對稱增加。

6.根據權利要求2-5任一項所述的陣列透鏡，其特征在于，同一所述陣列結構中，所述多個鏤空槽中的所述陣列單元在至少一個陣列方向上具有漸變的陣列單元尺寸。

7.根據權利要求6所述的陣列透鏡，其特征在于，同一所述陣列結構中，所述多個鏤空槽中的所述陣列單元的所述陣列單元尺寸在所述行方向上由所述二維陣列的第一中心線向陣列邊緣對稱減小，或/和同一所述陣列結構中，所述多個鏤空槽中的陣列單元的所述陣列單元尺寸在所述列方向上由所述二維陣列的第二中心線向陣列邊緣對稱減小。

8.根據權利要求1所述的陣列透鏡，其特征在于，多層所述陣列結構中同軸設置的所述多個鏤空槽中的所述陣列單元在第一方向上具有漸變的陣列單元尺寸。

9.根據權利要求1所述的陣列透鏡，其特征在于，同一所述陣列結構中，多個所述鏤空槽在至少一個陣列方向上具有漸變的鏤空槽尺寸。

10.根據權利要求1所述的陣列透鏡，其特征在于，在所述陣列方向上，相鄰兩個所述鏤空槽的中心距離相等。

11.根據權利要求1所述的陣列透鏡，其特征在于，所述陣列單元包括至少一矩形導電片或至少一橢圓形導電片。

12.根據權利要求11所述的陣列透鏡，其特征在于，多個所述矩形導電片平行設置，且所述矩形導電片在平行方向上的長度尺寸不同；或，多個所述橢圓形導電片的長軸平行設置，且所述橢圓形導電片的長軸尺寸不同。

13.根據權利要求1所述的陣列透鏡，其特征在于，所述鏤空槽為圓形鏤空槽或矩形鏤空槽。

14.一種透鏡天線，其特征在于，包括：

饋源陣列，所述饋源陣列包括多個饋源單元；

與所述饋源陣列平行設置的如權利要求1-13任一所述的陣列透鏡。