[發明專利]陣列透鏡、透鏡天線和電子設備有效
| 申請號: | 201911040028.7 | 申請日: | 2019-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN110729565B | 公開(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發明(設計)人: | 楊帆 | 申請(專利權)人: | OPPO廣東移動通信有限公司 |
| 主分類號: | H01Q15/02 | 分類號: | H01Q15/02;H01Q19/06;H01Q1/50;H01Q21/00;H01Q1/22 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 熊文杰 |
| 地址: | 523860 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 透鏡 透鏡天線 電子設備 | ||
本申請涉及一種陣列透鏡、透鏡天線和電子設備,陣列透鏡包括:介質層;兩層陣列結構,分別設置于介質層相背兩面;其中,陣列結構上開設有多個呈二維陣列設置的縫隙單元,縫隙單元包括彼此分離設置閉口環縫隙、開口環縫隙和條狀縫隙,閉口環縫隙環繞開口環縫隙設置,且開口環縫隙環繞條狀縫隙設置,其中,兩層陣列結構中位于同一相對位置的兩個縫隙單元同軸設置,且兩個縫隙單元中的開口環縫隙的開口方向相反,同一陣列結構中多個縫隙單元中的條狀縫隙在陣列方向上具有漸變的縫隙尺寸,可對不同頻段的相位分布進行補償,使得偏離焦點較遠的饋源輻射的電磁波也能被較好地匯聚,大大減小偏焦波束增益的降幅,大幅提高透鏡天線的掃描角度。
技術領域
本申請涉及天線技術領域,特別是涉及一種陣列透鏡、透鏡天線和電子設備。
背景技術
透鏡天線,一種能夠通過電磁波,將點源或線源的球面波或柱面波轉換為平面波從而獲得筆形、扇形或其他形狀波束的天線。通過合適設計透鏡表面形狀和折射率,調節電磁波的相速以獲得輻射口徑上的平面波前。一般的透鏡天線在偏離透鏡焦點較遠的饋源輻射的電磁波不能被較好的匯聚,使得透鏡天線的掃描角度受到限制掃描角度有限,不利于覆蓋較大范圍。
發明內容
本申請實施例提供一種陣列透鏡、透鏡天線和電子設備,可以大大減小偏焦波束增益的降幅,提高透鏡天線的掃描角度,覆蓋范圍大。
一種陣列透鏡,包括:
介質層;
兩層陣列結構,分別設置于所述介質層相背兩面;其中,所述陣列結構上開設有多個呈二維陣列設置的縫隙單元,所述縫隙單元包括彼此分離設置閉口環縫隙、開口環縫隙和條狀縫隙,所述閉口環縫隙環繞所述開口環縫隙設置,且所述開口環縫隙環繞所述條狀縫隙設置,其中,
兩層陣列結構中位于同一相對位置的兩個縫隙單元同軸設置,且所述兩個縫隙單元中的開口環縫隙的開口方向相反,同一陣列結構中多個縫隙單元中的條狀縫隙在陣列方向上具有漸變的縫隙尺寸。
此外,還提供一種透鏡天線,包括饋源陣列,所述饋源陣列包括至少兩個饋源單元;
與所述饋源陣列平行設置的上任一所述的陣列透鏡。
此外,還提供一種電子設備,包括上述的透鏡天線。
上述陣列透鏡、透鏡天線和電子設備,包括介質層;兩層陣列結構,分別設置于所述介質層相背兩面;其中,所述陣列結構上開設有多個呈二維陣列設置的縫隙單元,所述縫隙單元包括彼此分離設置閉口環縫隙、開口環縫隙和條狀縫隙,所述閉口環縫隙環繞所述開口環縫隙設置,且所述開口環縫隙環繞所述條狀縫隙設置,其中,兩層陣列結構中位于同一相對位置的兩個縫隙單元同軸設置,且所述兩個縫隙單元中的開口環縫隙的開口方向相反,同一陣列結構中多個縫隙單元中的條狀縫隙在陣列方向上具有漸變的縫隙尺寸,可對不同頻段的相位分布進行補償,使得偏離焦點較遠的饋源輻射的電磁波也能被較好地匯聚,大大減小偏焦波束增益的降幅,大幅提高透鏡天線的掃描角度,與一般的雙透鏡系統相比,本方案透鏡剖面低,更利于在手機等電子設備中進行集成。
附圖說明
為了更清楚地說明本申請實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申請的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為一個實施例中電子設備的立體圖;
圖2為一個實施例中包括透鏡天線的電子設備的示意圖;
圖3為一實施例中陣列透鏡的結構示意圖;
圖4為一實施例中縫隙單元的結構示意圖;
圖5為一實施例中第一陣列結構的結構示意圖;
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