[發(fā)明專利]陣列透鏡、透鏡天線和電子設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201911040028.7 | 申請(qǐng)日: | 2019-10-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110729565B | 公開(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊帆 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | OPPO廣東移動(dòng)通信有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01Q15/02 | 分類號(hào): | H01Q15/02;H01Q19/06;H01Q1/50;H01Q21/00;H01Q1/22 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 熊文杰 |
| 地址: | 523860 廣東*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 透鏡 透鏡天線 電子設(shè)備 | ||
1.一種陣列透鏡,其特征在于,包括:
介質(zhì)層;
兩層陣列結(jié)構(gòu),分別設(shè)置于所述介質(zhì)層相背兩面;其中,所述陣列結(jié)構(gòu)上開設(shè)有多個(gè)呈二維陣列設(shè)置的縫隙單元,所述縫隙單元包括彼此分離設(shè)置閉口環(huán)縫隙、開口環(huán)縫隙和條狀縫隙,所述閉口環(huán)縫隙環(huán)繞所述開口環(huán)縫隙設(shè)置,所述閉口環(huán)縫隙的半徑大于所述開口環(huán)縫隙的半徑且所述開口環(huán)縫隙環(huán)繞所述條狀縫隙設(shè)置,其中,
兩層陣列結(jié)構(gòu)中位于同一相對(duì)位置的兩個(gè)縫隙單元同軸設(shè)置,且所述兩個(gè)縫隙單元中的開口環(huán)縫隙的開口方向相反,同一陣列結(jié)構(gòu)中多個(gè)縫隙單元中的條狀縫隙在陣列方向上具有漸變的縫隙尺寸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列透鏡,其特征在于,所述二維陣列的陣列方向包括行方向和列方向,同一所述陣列結(jié)構(gòu)中多個(gè)縫隙單元中的條狀縫隙在所述行方向上具有漸變的縫隙尺寸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列透鏡,其特征在于,同一所述陣列結(jié)構(gòu)中多個(gè)縫隙單元中的條狀縫隙在所述行方向上的縫隙尺寸由所述二維陣列的第一中心線向陣列邊緣對(duì)稱減小,在列方向上的縫隙尺寸不變。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列透鏡,其特征在于,同一所述陣列結(jié)構(gòu)中多個(gè)縫隙單元中的條狀縫隙在所述列方向上具有漸變的縫隙尺寸。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陣列透鏡,其特征在于,同一所述陣列結(jié)構(gòu)中多個(gè)縫隙單元中的條狀縫隙在所述行方向上的縫隙尺寸由所述二維陣列的第一中心線向陣列邊緣對(duì)稱減小,在所述列方向上的縫隙尺寸由所述二維陣列的第二中心線向陣列邊緣對(duì)稱減小。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列透鏡,其特征在于,所述縫隙尺寸至少包括所述條狀縫隙沿所述列方向的長(zhǎng)度尺寸。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的陣列透鏡,其特征在于,同一所述陣列結(jié)構(gòu)中多個(gè)縫隙單元中的開口環(huán)縫隙在所述陣列方向上均有漸變的開口角度。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列透鏡,其特征在于,所述陣列方向包括行方向和列方向,同一所述陣列結(jié)構(gòu)中多個(gè)縫隙單元中的開口環(huán)縫隙在所述行方向上的開口角度由所述二維陣列的第一中心線向陣列邊緣對(duì)稱增加,在列方向上的開口角度不變,或,同一所述陣列結(jié)構(gòu)中多個(gè)縫隙單元中的開口環(huán)縫隙在所述行方向上的開口角度由所述二維陣列的第一中心線向陣列邊緣對(duì)稱增加,在所述列方向上的開口角度由所述二維陣列的第二中心線向陣列邊緣對(duì)稱增加。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列透鏡,其特征在于,同一所述陣列結(jié)構(gòu)中多個(gè)縫隙單元中的開口環(huán)縫隙在所述陣列方向上均有漸變的環(huán)寬尺寸。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列透鏡,其特征在于,在所述陣列方向上,相鄰兩個(gè)所述縫隙單元的中心距離相等。
11.一種透鏡天線,其特征在于,包括:
饋源陣列,所述饋源陣列包括至少兩個(gè)饋源單元;
與所述饋源陣列平行設(shè)置的如權(quán)利要求1-10任一所述的陣列透鏡。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的透鏡天線,其特征在于,所述透鏡天線還包括平行設(shè)置的第一隔離板和第二隔離板,所述饋源陣列和所述陣列透鏡設(shè)置在所述第一隔離板和第二隔離板之間。
13.一種電子設(shè)備,其特征在于,包括如權(quán)利要求11~12任一項(xiàng)所述的透鏡天線。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述電子設(shè)備還包括:
檢測(cè)模塊,用于獲取每個(gè)所述饋源單元處于工作狀態(tài)時(shí)所述透鏡天線的波束信號(hào)強(qiáng)度;
開關(guān)模塊,與所述饋源陣列連接,用于選擇導(dǎo)通與任一所述饋源單元的連接通路;
控制模塊,分別與所述檢測(cè)模塊、所述開關(guān)模塊連接,用于根據(jù)所述波束信號(hào)強(qiáng)度控制所述開關(guān)模塊,使最強(qiáng)波束信號(hào)強(qiáng)度對(duì)應(yīng)的所述饋源單元處于工作狀態(tài)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電子設(shè)備,其特征在于,所述透鏡天線的數(shù)量為多個(gè)。
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