[發(fā)明專利]極紫外線微影方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911038537.6 | 申請日： | 2019-10-29 |
| 公開（公告）號： | CN111103766A | 公開（公告）日： | 2020-05-05 |
| 發(fā)明（設計）人： | 蘇彥碩;葉人豪;葉展宏;鄭定亞;童宇軒;張俊霖;張漢龍;陳立銳;鄭博中 | 申請（專利權）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金國 |
| 地址： | 中國臺灣新竹市*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 紫外線 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種極紫外線微影方法，其特征在于，包含：
在一極紫外線(EUV)微影工具的一EUV光源設備中用離子化輻射照射一液滴以產(chǎn)生EUV輻射及一電漿；
偵測由該電漿產(chǎn)生的一沖擊波；以及
基于所偵測的該沖擊波來調(diào)節(jié)該EUV光源設備的一或多個操作參數(shù)。
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