[發(fā)明專利]一種顯示基板、顯示裝置及顯示基板的制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201911038140.7 | 申請日: | 2019-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN110767725B | 公開(公告)日: | 2022-05-10 |
| 發(fā)明(設計)人: | 熊建清 | 申請(專利權(quán))人: | 維沃移動通信有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;黃燦 |
| 地址: | 523860 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 顯示裝置 制作方法 | ||
1.一種顯示基板,其特征在于,包括襯底基板、支撐柱及位于所述襯底基板與所述支撐柱之間的柵極層,所述襯底基板包括第一透光區(qū)及除所述第一透光區(qū)以外的非透光區(qū),所述支撐柱在所述襯底基板形成的正投影被柵極層圖形在所述襯底基板形成的正投影覆蓋;
所述柵極層包括第二透光區(qū);所述第二透光區(qū)與所述第一透光區(qū)相對應設置,所述柵極層圖形位于所述第二透光區(qū);所述柵極層的除第二透光區(qū)以外的區(qū)域未設置有柵極層圖形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述顯示基板還包括源極漏極金屬層,所述源極漏極金屬層位于所述柵極層與所述支撐柱之間,所述源極漏極金屬層的圖形在所述襯底基板上形成的正投影與所述支撐柱在所述襯底基板上形成的正投影至少部分重疊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示基板,其特征在于,所述源極漏極金屬層的圖形在所述襯底基板上形成的正投影覆蓋所述支撐柱在所述襯底基板上形成的正投影。
4.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求1-3中任一項所述的顯示基板。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置還包括感光模組,所述感光模組位于所述襯底基板的背對所述柵極層的一側(cè),所述感光模組在所述顯示基板的正投影位于所述第一透光區(qū)內(nèi)。
6.據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示裝置,其特征在于,所述感光模組為攝像頭模組或指紋識別模組。
7.一種顯示基板的制作方法,應用于如權(quán)利要求1-3中任一項所述的顯示基板,其特征在于,所述方法包括以下步驟:
提供一襯底基板;
在所述襯底基板上形成柵極層;
在所述柵極層的背對所述襯底基板的一側(cè)形成支撐柱;
其中,所述襯底基板包括第一透光區(qū)及除所述第一透光區(qū)以外的非透光區(qū),所述支撐柱在所述襯底基板形成的正投影被柵極層圖形在所述襯底基板形成的正投影覆蓋;所述柵極層包括第二透光區(qū);所述第二透光區(qū)與所述第一透光區(qū)相對應設置,所述柵極層圖形位于所述第二透光區(qū);所述柵極層的除第二透光區(qū)以外的區(qū)域未設置有柵極層圖形。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





