[發明專利]曝光裝置以及物品制造方法

有效

• 申請號: 201911033882.0
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN111103765B
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發明（設計）人: 岡田隆;水元一史
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 程晨

本發明涉及曝光裝置以及物品制造方法。提供在使底板或者基板相對于投影光學系統的像面傾斜地對基板進行掃描曝光的曝光裝置中對于得到擴大的焦點深度有利的技術。曝光裝置具有對原版進行照明的照明光學系統以及將所述原版的圖案投影到基板的投影光學系統，所述曝光裝置在使所述原版或者所述基板相對于所述投影光學系統的像面傾斜的狀態下，一邊對所述原版以及所述基板進行掃描，一邊對所述基板進行曝光。曝光裝置具有：調整部，調整所述原版或者所述基板相對于所述像面的傾斜；以及控制部，控制所述調整部，所述控制部使所述原版或者所述基板向以使形成于所述基板的拍攝區域上的潛像的錯誤變小的方式決定的方向傾斜。

技術領域

本發明涉及曝光裝置以及物品制造方法，涉及例如在底板或者基板相對于投影光學系統的像面傾斜的狀態下對基板進行曝光的曝光裝置、以及使用該曝光裝置來制造物品的物品制造方法。

背景技術

作為使曝光裝置中的焦點深度擴大的手法，已知使掩模的圖案成像于光軸方向的不同的位置的FLEX(Focus?Latitude?Enhancement?Exposure，聚焦范圍增強曝光)法。當在掃描曝光裝置中實施基于FLEX法的曝光時，在基板或者掩模相對于投影光學系統的像面傾斜的狀態下被掃描驅動。在基于FLEX法的曝光中，為了在投影光學系統的像面整體得到均勻的焦點深度擴大的效果，需要使照明光學系統的照明視野光圈的開口(狹縫)區域關于沿著與掃描方向正交的方向的直線對稱。在基于FLEX法的曝光中，基板載物臺傾斜，所以在狹縫區域為非對稱的情況下，在與掃描方向正交的方向的各位置處，散焦量發生改變，在拍攝區域內無法得到均勻的焦點深度擴大的效果。

在專利文獻1中，提出了在使掩模或者基板傾斜的情況下，控制由于遠心度在狹縫的跟前側和后側發生改變而產生的彗形像差，從而使拍攝區域內的焦點深度擴大的效果變均勻的手法。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2009-164296號公報

發明內容

在當前狀況下，用掃描曝光裝置實施基于FLEX法的曝光時的焦點深度擴大的效果不充分，期望得到改善。

根據本發明的第1方面，提供一種曝光裝置，具有對原版進行照明的照明光學系統以及將所述原版的圖案投影到基板的投影光學系統，所述曝光裝置在使所述原版或者所述基板相對于所述投影光學系統的像面傾斜的狀態下，一邊對所述原版以及所述基板進行掃描，一邊對所述基板進行曝光，所述曝光裝置的特征在于，具有：調整部，調整所述原版或者所述基板相對于所述像面的傾斜；以及控制部，控制所述調整部，所述控制部使所述原版或者所述基板向以使形成于所述基板的拍攝區域上的潛像的錯誤變小的方式決定的方向傾斜。

根據本發明的第2方面，提供一種物品制造方法，其特征在于，包括：使用上述第1方面的曝光裝置對基板進行曝光的工序；以及使在所述工序中被曝光的所述基板顯影的工序，從顯影后的所述基板制造物品。

根據本發明，例如，提供在使底板或者基板相對于投影光學系統的像面傾斜地對基板進行掃描曝光的曝光裝置中對于得到擴大的焦點深度有利的技術。

附圖說明

圖1是示出實施方式中的掃描曝光裝置的結構的圖。

圖2是說明基于FLEX法的曝光的圖。

圖3是示出狹縫區域的形狀與散焦量的關系的圖。

圖4是說明散焦系數的計算方法的圖。

圖5是示出實施方式中的FLEX曝光時的基板的傾斜方向的決定處理的流程圖。

圖6是說明實施方式中的FLEX曝光時的基板的傾斜方向的決定處理的圖。

圖7是示出實施方式中的FLEX曝光時的基板的傾斜方向的決定處理的流程圖。