[發明專利]曝光裝置以及物品制造方法

有效

• 申請號: 201911033882.0
• 申請日: 2019-10-29
• 公開（公告）號: CN111103765B
• 公開（公告）日: 2023-04-14
• 發明（設計）人: 岡田隆;水元一史
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 程晨

1.一種曝光裝置，具有對原版進行照明的照明光學系統以及將所述原版的圖案投影到基板的投影光學系統，所述曝光裝置在使所述原版或者所述基板相對于所述投影光學系統的像面傾斜的狀態下，一邊對所述原版以及所述基板進行掃描，一邊對所述基板進行曝光，所述曝光裝置的特征在于，具有：

調整部，調整所述原版或者所述基板相對于所述像面的傾斜；以及

控制部，控制所述調整部，

所述控制部根據第1錯誤、第2錯誤以及第3錯誤，使所述原版或者所述基板向以使形成于所述基板的拍攝區域上的潛像的錯誤變小的方式決定的方向傾斜，該第1錯誤是在使所述原版或者所述基板不傾斜的狀態下對所述拍攝區域進行曝光的情況下的、形成于所述拍攝區域上的潛像的錯誤，該第2錯誤是在使所述原版或者所述基板向第1方向傾斜的狀態下對所述拍攝區域進行曝光的情況下的、形成于所述拍攝區域上的潛像的該傾斜所引起的錯誤，該第3錯誤是在使所述原版或者所述基板向方向與所述第1方向相反的第2方向傾斜的狀態下對所述拍攝區域進行曝光的情況下的、形成于所述拍攝區域上的潛像的該傾斜所引起的錯誤。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制部根據合成所述第1錯誤和所述第2錯誤而得到的第1合成錯誤與合成所述第1錯誤和所述第3錯誤而得到的第2合成錯誤的比較結果，決定所述原版或者所述基板的傾斜方向。

3.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述照明光學系統包括規定所述原版的照明區域的照明視野光圈，

所述控制部求出根據取決于由所述照明視野光圈形成的狹縫的與掃描方向正交的方向上的各位置的寬度的散焦系數、和起因于所述基板的傾斜而形成于所述拍攝區域上的潛像的錯誤而計算的、與所述狹縫的形狀相應的所述潛像的錯誤，作為所述第2錯誤或者所述第3錯誤。

4.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制部一邊以校正所述第2錯誤或者所述第3錯誤的方式驅動所述投影光學系統所包含的透鏡，一邊進行曝光。

5.根據權利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制部根據關于所述基板的多個傾斜量的各個傾斜量的因所述基板的傾斜而產生的錯誤的數據，求出所述第2錯誤以及所述第3錯誤。

6.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制部針對排列于所述基板的多個拍攝區域的每個拍攝區域，進行由所述調整部進行的所述傾斜的調整。

7.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制部針對排列于所述基板的多個拍攝區域的、曝光的順序連續且掃描方向相互相同的每個群組，進行由所述調整部進行的所述傾斜的調整，在各群組內使所述傾斜的調整狀態成為固定。

8.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述控制部作為曝光控制模式而具有使曝光精度優先的精度優先模式和使產量優先的產量優先模式，在選擇所述精度優先模式的情況下，針對排列于所述基板的多個拍攝區域的各個拍攝區域，進行由所述調整部進行的所述傾斜的調整，在選擇所述產量優先模式的情況下，針對所述多個拍攝區域的、曝光的順序連續且掃描方向相互相同的每個群組，進行由所述調整部進行的所述傾斜的調整，在各群組內使所述傾斜的調整狀態成為固定。

9.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述潛像的錯誤是潛像的位置偏離、失真度、線寬的誤差中的任意錯誤。

10.一種物品制造方法，其特征在于，包括：

使用權利要求1至9中的任意一項所述的曝光裝置對基板進行曝光的工序；以及

使在所述工序中被曝光的所述基板顯影的工序，

從顯影后的所述基板制造物品。