[發明專利]一種旋轉靶材的綁定方法在審
| 申請號: | 201911025924.6 | 申請日: | 2019-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN110804726A | 公開(公告)日: | 2020-02-18 |
| 發明(設計)人: | 陳標;郭朋;劉所心;段宇龍 | 申請(專利權)人: | 廣西晶聯光電材料有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 柳州市榮久專利商標事務所(普通合伙) 45113 | 代理人: | 韋微 |
| 地址: | 545616 廣西壯族自治區柳州市柳*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 旋轉 綁定 方法 | ||
本發明涉及一種旋轉靶材的綁定方法,該方法是先將靶材和鈦管進行粗化處理,再對靶材和鈦管分別進行金屬化處理,然后在靶材和鈦管上均勻的涂覆一層助焊劑;將靶材和鈦管組裝好,啟動加熱裝置,將銦槽中銦液氧化膜去除,開啟銦管道閥門,使銦液緩慢的從底部充滿整個焊縫至銦池,然后開始對靶材進行分段冷卻;最終冷卻至室溫,完成整根靶材的綁定過程。本發明采用整根靶材綁定的方式,可以簡單高效地完成多節靶材的綁定工作,其優點為:無需高溫組裝,對組裝時間未有嚴格的控制,自動化水平比較高;對工人勞動強度和員工操作的熟練程度要求不高,焊合率和焊合質量很好。
技術領域
本發明涉及一種用于磁控濺射鍍膜旋轉靶材的綁定方法,特別是一種多節旋轉靶材同時綁定的方法。
背景技術
磁控濺射是制備薄膜材料的主要技術之一,在電子薄膜、光學薄膜、光電薄膜、磁性薄膜和超導薄膜等技術領域得到廣泛的應用。隨著科技的發展,鍍膜行業已經成為一種專業化的行業,靶材的市場進一步的擴張。濺射靶材通常有兩種:平面靶材和旋轉靶材。
起初開始使用平面靶材,而平面靶材利用率一般只有20%~30%;隨著技術的進步,逐漸開始向旋轉靶過渡,首先是旋轉靶在使用過程中不斷地旋轉,且成膜均勻,穩定性高,成品率高,利用率可高達80%以上,在使用過程中不會出現靶材“結瘤”現象。
旋轉靶材無法直接進行使用,需要焊合到背管上,靶材綁定的貼合率和貼合質量直接影響靶材的濺射使用。在濺射過程中,如果綁定后靶管、背管和銦層貼合效果不夠,在濺射過程中會出現導電不良,散熱效果不好,導致局部受熱不均勻,易造成脫靶甚至開裂(陶瓷靶)。
旋轉靶與背管是曲面接觸,與平面靶不同,管靶綁定一般將旋轉靶與背管進行加熱,然后將熔融焊料注入綁定縫隙中,旋轉靶綁定是多節旋轉靶管釬焊到背管上,旋轉靶的單節長度越大,壁厚越小,澆注的均勻性和質量越難以控制,陶瓷類靶材對溫度控制的要求更高一些。
目前國內旋轉靶綁定是采用分節綁定的方法,這種方法對員工熟練程度要求很高,且勞動強度比較高,綁定均勻性和綁定質量不好控制。
發明內容
本發明要解決的技術問題是:提供一種旋轉靶材的綁定方法,該方法可以同時綁定多節旋轉靶材,且無需高溫組裝,對組裝時間未有嚴格的控制;對工人勞動強度和員工操作的熟練程度要求不高,焊合質量好。
解決上述技術問題的技術方案是:一種旋轉靶材的綁定方法,采用的綁定裝置包括加熱平臺、模具底座、外加熱裝置、內加熱裝置、上端蓋、靶材壓塊、壓桿、銦槽和銦槽加熱裝置,模具底座開有進銦通道,銦槽和進銦通道之間通過銦管道連通,銦管道外部設置有管道加熱裝置,銦管道上設置有閥門;
該綁定方法包括以下步驟:
(一)將靶材和背管進行粗化處理;
(二)將靶材與背管分別進行金屬化處理;
(三)在步驟(二)處理后的常溫的靶材內壁和背管外壁均勻涂覆一層助焊劑;
(四)將N節靶材分別組裝至背管外側,N的取值為1-10,將內加熱裝置置于背管中,將背管放置在模具底座內,靶材放置在模具底座上,模具底座和內加熱管均放置在加熱平臺上;外加熱裝置套裝在靶材外側并位于模具底座上,靶材頂端面通過靶材壓塊壓緊,上端蓋放置在靶材壓塊、背管和內加熱裝置上,上端蓋、靶材壓塊和背管之間形成銦溢流槽,銦溢流槽位置的上端蓋上還開有銦溢流口,壓桿放置在上端蓋上,所述模具底座與背管之間、靶材壓塊與上端蓋之間均設置有密封圈,背管與靶材之間形成焊縫空間,焊縫空間分別與進銦通道、銦溢流槽連通;
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