[發明專利]光學元件、像差校正裝置、光刻機系統和像差校正方法

在審

• 申請號: 201911021774.1
• 申請日: 2019-10-25
• 公開（公告）號: CN110716302A
• 公開（公告）日: 2020-01-21
• 發明（設計）人: 周嫻;馬星;張祥平;伍建華;晁陽
• 申請（專利權）人: 德淮半導體有限公司
• 主分類號: G02B26/00
• 分類號: G02B26/00;G03F7/20
• 代理公司: 11038 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 杜文樹

1.一種光學元件，其特征在于，包括：

透明的頂板；

透明的底板；

位于頂板與底板之間的多個隔間，其中，每個隔間彼此液體密封并由具有不同折射率的第一液體和第二液體充滿，第一液體和第二液體之間相互分離并形成與頂板和底板近似平行的界面；和

加熱元件，用于對每個隔間中的第一液體和第二液體分別加熱，

其中，加熱元件控制每個隔間中的第一液體和第二液體的溫度，以利用第一液體和第二液體的受熱膨脹來控制每個隔間中的界面的位置。

2.根據權利要求1所述的光學元件，其中，加熱元件包括設置在頂板上的第一加熱元件和設置在底板上的第二加熱元件，每個隔間由對應的至少一個第一加熱元件和對應的至少一個第二加熱元件加熱。

3.根據權利要求2所述的光學元件，其中，每個第一加熱元件和每個第二加熱元件對于對應的一個隔間進行加熱。

4.根據權利要求2所述的光學元件，其中，每個第一加熱元件和每個第二加熱元件對于對應的多個相鄰隔間進行加熱。

5.根據權利要求2所述的光學元件，其中，與每個隔間對應的所述至少一個第一加熱元件和所述至少一個第二加熱元件被分別相對于與其他隔間對應的所述至少一個第一加熱元件和所述至少一個第二加熱元件獨立地控制。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的光學元件，其中，所述多個隔間以陣列的形式布置，其中，每一列上的隔間包括一個或多個隔間。

7.根據權利要求6所述的光學元件，其中，與每一列上的隔間對應的第一加熱元件和第二加熱元件被分別相對于與其他列上的隔間對應的第一加熱元件和其他列的第二加熱元件獨立地控制。

8.一種像差校正裝置，其特征在于，包括：

根據權利要求1-7中任一項所述的光學元件；

像差測量裝置，被配置為測量經過光學元件的成像光的像差；

期望位置確定裝置，被配置為根據所測量的成像光的像差來確定每個隔間中的界面的期望位置；和

控制裝置，被配置為根據所確定的每個隔間中的界面的期望位置來控制加熱元件，以使得每個隔間中的界面到達期望位置。

9.一種光刻機系統，包括根據權利要求8所述的像差校正裝置。

10.一種使用根據權利要求9所述的像差校正裝置來校正像差的方法，包括：

測量經過光學元件的成像光的像差；

根據所測量的成像光的像差來確定每個隔間中的界面的期望位置；和

根據所確定的每個隔間中的界面的期望位置來控制加熱元件，以使得每個隔間中的界面到達期望位置。