[發明專利]光學元件、像差校正裝置、光刻機系統和像差校正方法在審
| 申請號: | 201911021774.1 | 申請日: | 2019-10-25 |
| 公開(公告)號: | CN110716302A | 公開(公告)日: | 2020-01-21 |
| 發明(設計)人: | 周嫻;馬星;張祥平;伍建華;晁陽 | 申請(專利權)人: | 德淮半導體有限公司 |
| 主分類號: | G02B26/00 | 分類號: | G02B26/00;G03F7/20 |
| 代理公司: | 11038 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 杜文樹 |
| 地址: | 223300 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 隔間 底板 光學元件 透明的 加熱元件控制 像差校正裝置 加熱元件 受熱膨脹 像差校正 液體充滿 液體密封 光刻機 折射率 加熱 近似 平行 | ||
本公開涉及光學元件、像差校正裝置、光刻機系統和像差校正方法。提供了一種光學元件,包括:透明的頂板;透明的底板;位于頂板與底板之間的多個隔間,其中,每個隔間彼此液體密封并由具有不同折射率的第一液體和第二液體充滿,第一液體和第二液體之間相互分離并形成與頂板和底板近似平行的界面;和加熱元件,用于對每個隔間中的第一液體和第二液體分別加熱,其中,加熱元件控制每個隔間中的第一液體和第二液體的溫度,以利用第一液體和第二液體的受熱膨脹來控制每個隔間中的界面的位置。
技術領域
本公開涉及光學領域,具體來說,涉及能夠改善像差的光學元件、像差校正裝置、光刻機系統和像差校正方法。
背景技術
在掃描光學系統中,投影透鏡對成像具有很大影響。常規的透鏡往往具有像差,這會導致入射光波在穿過透鏡之后發生變形,從而嚴重地影響成像質量。
因此存在對于能夠改善波像差的光學元件的需求。
發明內容
本公開的實施例的一個目的是提供能夠改善像差的光學元件、像差校正裝置和像差校正方法。
根據本公開的一個方面,提供了一種光學元件,其包括:透明的頂板;透明的底板;位于頂板與底板之間的多個隔間,其中,每個隔間彼此液體密封并由具有不同折射率的第一液體和第二液體充滿,第一液體和第二液體之間相互分離并形成與頂板和底板近似平行的界面;和加熱元件,用于對每個隔間中的第一液體和第二液體分別加熱,其中,加熱元件控制每個隔間中的第一液體和第二液體的溫度,以利用第一液體和第二液體的受熱膨脹來控制每個隔間中的界面的位置。
在一個實施例中,加熱元件包括設置在頂板上的第一加熱元件和設置在底板上的第二加熱元件,每個隔間由對應的至少一個第一加熱元件和對應的至少一個第二加熱元件加熱。
在一個實施例中,每個第一加熱元件和每個第二加熱元件對于對應的一個隔間進行加熱。
在一個實施例中,每個第一加熱元件和每個第二加熱元件對于對應的多個相鄰隔間進行加熱。
在一個實施例中,與每個隔間對應的所述至少一個第一加熱元件和所述至少一個第二加熱元件被分別相對于與其他隔間對應的所述至少一個第一加熱元件和所述至少一個第二加熱元件獨立地控制。
在一個實施例中,所述多個隔間以陣列的形式布置,其中,每一列上的隔間包括一個或多個隔間。
在一個實施例中,與每一列上的隔間對應的第一加熱元件和第二加熱元件被分別相對于與其他列上的隔間對應的第一加熱元件和其他列的第二加熱元件獨立地控制。
在一個實施例中,所述多個隔間構成在從光學元件的中心向外的方向上彼此相鄰的多個同心環,每個同心環上的隔間包括一個或多個隔間。
在一個實施例中,與每一環上的隔間對應的第一加熱元件和第二加熱元件被分別相對于與其他環上的隔間對應的第一加熱元件和其他列的第二加熱元件獨立地控制。
在一個實施例中,加熱元件為金屬電阻絲。
在一個實施例中,加熱元件由透明電阻材料制成。
在一個實施例中,第一液體與第二液體彼此不相溶,并且第一液體的密度與第二液體的密度不同。
在一個實施例中,第一液體與第二液體之間具有隔膜,該隔膜可以隨著第一液體和第二液體的受熱膨脹而變形。
在一個實施例中,第一液體是苯、甲苯、四氯化碳、二硫化碳、環己烷、正已烷、庚烷、硅油或石蠟油中的一種,而第二液體是鹽水溶液、無機酸水溶液、水或乙二醇中的一種。
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