[發明專利]調節閥門裝置

在審

• 申請號: 201911017387.0
• 申請日: 2019-10-24
• 公開（公告）號: CN111350834A
• 公開（公告）日: 2020-06-30
• 發明（設計）人: 金根浩;秋成云
• 申請（專利權）人: 夏泰鑫半導體（青島）有限公司
• 主分類號: F16K3/02
• 分類號: F16K3/02;F16K3/314;F16K3/316
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 彭輝劍;龔慧惠

本發明提供一種調節閥結構及操作方法。所述調節閥結構包括：蓋體機構，所述蓋體機構包括：具有中央開口的閥門；多個葉片相對于所述中央開口的中心在一開啟位置和一關閉位置之間可對稱地移動；以及多個桿構件相應地連接所述多個葉片，所述多個桿構件中的每一者以垂直于所述閥門的切線方向設置；以及連接到所述蓋體機構的控制器。

技術領域

本公開總體上涉及調節閥裝置，更具體地，涉及用于控制處理室中的排氣流的均勻性的調節閥。

本申請要求2018年12月20日提交的美國臨時專利申請No.62782369的優先權，該臨時專利申請通過引用結合在此并且作為說明書的一部分。

背景技術

在半導體器件制造設備中，擺錘閥通常被設于裝備有真空泵系統的制造設備的腔室中來控制氣壓狀態。典型的擺動閥具有圓盤形狀。當擺動閥的柄部被沿某個方向(例如，順時針方向)旋轉時，擺動閥可以如同月亮改變月相一般地被電動機以特定速度開啟。藉此，處理室中的氣體可以由真空泵系統通過擺動閥從處理腔室中排出。然而，因為擺動閥的開口區域的形狀不是中心對稱的，所以在擺動閥的操作期間可能在腔室中引起氣流的紊流。紊流的產生量可能與擺動閥的操作速度呈比例關系。這種氣體湍流可能導致制程上問題，例如處理室中部件角度的不對準，并且負面地影響處理制程均勻性，從而導致不期望的缺陷。此外，如果將打開擺動閥的速度放慢，則制程處理時間將會增加，從而影響制造效率。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種調節閥結構及操作方法，以解決上述技術問題。

一種調節閥結構，其包括：蓋體機構，所述蓋體機構包括：具有中央開口的閥門；多個葉片相對于所述中央開口的中心在一開啟位置和一關閉位置之間可對稱地移動；以及多個桿構件相應地連接所述多個葉片，所述多個桿構件中的每一者以垂直于所述閥門的切線方向設置；以及連接到所述蓋體機構的控制器。

一種操作裝置的方法，所述方法包括：測量處理室中的壓力；根據所量測的壓力調整調節閥的蓋體機構，其中所述蓋體機構包括：閥門，其具有中央開口；多個葉片相對于所述中央開口的中心在一開啟位置和一關閉位置之間可對稱地移動；多個桿構件相應地連接到所述多個葉片，所述多個桿構件中的每一者以垂直于所述閥門的切線方向設置；以及控制器，用于控制所述蓋體機構；以及當所述蓋體機構呈開啟狀態時，通過排氣系統排出處理室中的處理氣體。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1示出了根據本公開的一些實施例的裝置示意圖。

圖2示出了根據本公開的一些實施例的蓋體機構的平面示意圖。

圖3示出了根據本公開的一些實施例的相鄰葉片的橫截面示意圖。

圖4A示出了根據本公開的一些實施例的蓋體機構的橫截面示意圖。

圖4B示出了根據本公開的一些實施例的蓋體機構的另一橫截面示意圖。

圖5A-5D示出了根據本公開的一些實施例的致動器。

圖6示出了根據本公開的一些實施例的裝置操作方法的流程圖。

然而，要注意的是，隨附圖式僅說明本案之示范性實施態樣并因此不被視為限制本案的范圍，因為本案可承認其他等效實施態樣。

主要組件符號說明