[發明專利]拼接補償方法、裝置及存儲介質

有效

• 申請號: 201910989628.1
• 申請日: 2019-10-17
• 公開（公告）號: CN110807733B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 李乾坤;盧維;殷俊
• 申請（專利權）人: 浙江大華技術股份有限公司
• 主分類號: G06T3/40
• 分類號: G06T3/40;G06T5/00
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 李慶波

1.一種拼接補償方法，其特征在于，包括：

獲取待拼接的部分重疊的第一圖像和第二圖像；

確定所述第一圖像的第一拼接區域以及所述第二圖像的第二拼接區域，所述第一拼接區域與所述第二拼接區域重疊，所述第一拼接區域被劃分為多個第一拼接塊，所述第二拼接區域以與所述第一拼接區域相同的方式被劃分為多個第二拼接塊，所述第一拼接區域和所述第二拼接區域均包括所述第一圖像和所述第二圖像的拼縫；

利用所述第一拼接塊的至少一個顏色分量的統計值獲取第一補償系數，和/或利用所述第二拼接塊的至少一個顏色分量的統計值獲取第二補償系數，所述第一補償系數代表所述第一拼接塊的所述顏色分量的補償系數，所述第二補償系數代表所述第二拼接塊的所述顏色分量的補償系數；

利用所述第一補償系數對所述顏色分量進行補償，其中所述顏色分量是所述第一拼接塊對應的第一補償塊的，所述第一補償塊包括所述第一拼接塊的可視區域的部分或全部，和/或利用所述第二補償系數對所述顏色分量進行補償，其中所述顏色分量所述第二拼接塊對應的第二補償塊的，所述第二補償塊包括所述第二拼接塊的可視區域的部分或全部。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

每個所述第一拼接塊和每個所述第二拼接塊包括至少一條貫通線，所述貫通線與所述拼縫不平行且與所述拼縫有交點。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，

所述第一圖像和所述第二圖像橫向拼接，所述貫通線為所述第一/第二拼接區域的一整行；或

所述第一圖像和所述第二圖像縱向拼接，所述貫通線為所述第一/第二拼接區域的一整列。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

所述利用所述第一拼接塊的至少一個顏色分量的統計值獲取第一補償系數，和/或利用所述第二拼接塊的至少一個顏色分量的統計值獲取第二補償系數，包括：

分別計算所述第一拼接塊的所述顏色分量的統計值與對應的所述第二拼接塊的所述顏色分量的統計值的比值；

對所述比值進行平滑濾波；

將平滑濾波后的比值作為所述第二補償系數，或將所述平滑濾波后的比值的倒數作為所述第一補償系數；

所述利用所述第一補償系數對所述顏色分量進行補償，其中所述顏色分量是所述第一拼接塊對應的第一補償塊的，所述第一補償塊包括第一拼接塊的可視區域的部分或全部，和/或利用所述第二補償系數對所述顏色分量進行補償，其中所述顏色分量所述第二拼接塊對應的第二補償塊的，所述第二補償塊包括第二拼接塊的可視區域的部分或全部包括：

利用所述第一補償系數確定所述第一補償塊的所述顏色分量的補償系數，將所述第一補償塊的所述顏色分量的補償系數與對應的所述第一補償塊的所述顏色分量相乘；或

利用所述第二補償系數確定所述第二補償塊的所述顏色分量的補償系數，將所述第二補償塊的所述顏色分量的補償系數與對應的所述第二補償塊的所述顏色分量相乘。