[發明專利]顯示裝置在審
| 申請號： | 201910987042.1 | 申請日： | 2019-10-16 |
| 公開（公告）號： | CN111077675A | 公開（公告）日： | 2020-04-28 |
| 發明（設計）人： | 東山匡史;木村卓也;川上慎司;巖佐達也;桑島悠司 | 申請（專利權）人： | 本田技研工業株式會社 |
| 主分類號： | G02B27/01 | 分類號： | G02B27/01 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 孫尚昆 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置，其中，
所述顯示裝置具備：
投光裝置，其投射包含圖像的光；
光學構件，其設置于所述光的路徑上；以及
凹面鏡，其將通過了所述光學構件的光朝向具有光透射性的反射體反射，
在包括所述光學構件、所述凹面鏡及所述反射體的光學系統中，縱向的焦距比橫向的焦距短。
2.根據權利要求1所述的顯示裝置，其中，
所述縱向的焦距是5米以下。
3.根據權利要求1或2所述的顯示裝置，其中，
所述橫向的焦距是所述縱向的焦距的1.4倍以上。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的顯示裝置，其中，
所述橫向的焦距是7米以上。
5.一種顯示裝置，其中，
所述顯示裝置具備：
投光裝置，其投射包含圖像的光；
光學機構，其設置于所述光的路徑上，且能夠調節從規定的位置到所述光形成為虛像的位置的距離；
第一致動器，其調節所述光學機構的所述距離；以及
凹面鏡，其將通過了所述光學機構的光朝向具有光透射性的反射體反射，
在包括所述光學機構、所述凹面鏡及所述反射體的光學系統中，縱向的焦距比橫向的焦距短的關系至少在由所述光學機構調節的距離為最短距離的情況下成立。
6.根據權利要求5所述的顯示裝置，其中，
在由所述光學機構調節的距離為最短距離的情況下，所述縱向的焦距是5米以下。
7.根據權利要求5或6所述的顯示裝置，其中，
在由所述光學機構調節的距離為最短距離的情況下，所述橫向的焦距是所述縱向的焦距的1.4倍以上。
8.根據權利要求5至7中任一項所述的顯示裝置，其中，
在由所述光學機構調節的距離為最短距離的情況下，所述橫向的焦距是7米以上。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于本田技研工業株式會社，未經本田技研工業株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910987042.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
