[發(fā)明專利]用于制造太陽(yáng)能電池的方法和太陽(yáng)能電池在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910979683.2 | 申請(qǐng)日: | 2019-10-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112670368A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 呂錦滇;林綱正;陳剛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江愛(ài)旭太陽(yáng)能科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18;H01L31/0224 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 趙林琳;張鵬 |
| 地址: | 321000 浙江省*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 制造 太陽(yáng)能電池 方法 | ||
本公開(kāi)涉及用于制造太陽(yáng)能電池的方法,包括:提供由半導(dǎo)體材料構(gòu)成的基底,基底具有第一類型;通過(guò)擴(kuò)散技術(shù)在基底的正面形成具有第二類型的第一半導(dǎo)體區(qū)域,第二類型與第一類型相反;在基底的背面提供鈍化膜;對(duì)基底的背面進(jìn)行激光開(kāi)槽,使得在鈍化膜處形成多個(gè)開(kāi)槽區(qū)域,其中在每個(gè)開(kāi)槽區(qū)域的寬度內(nèi)包括交替布置的第一部分和第二部分,第一部分表示以激光光斑對(duì)開(kāi)槽區(qū)域進(jìn)行開(kāi)槽的部分,第二部分表示不以激光光斑對(duì)開(kāi)槽區(qū)域進(jìn)行開(kāi)槽的部分;在基底的正面提供正電極,使得正電極與具有第二類型的第一半導(dǎo)體區(qū)域接觸;以及述基底的背面提供背電極,使得背電極通過(guò)開(kāi)槽區(qū)域與具有第一類型的基底接觸。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開(kāi)的各實(shí)施例涉及太陽(yáng)能電池領(lǐng)域,具體地涉及一種用于制造太陽(yáng)能電池的方法和相應(yīng)的太陽(yáng)能電池。
背景技術(shù)
目前晶體硅太陽(yáng)能電池大多數(shù)以P型硅片為基底材料,P型電池在實(shí)際環(huán)境中經(jīng)過(guò)光照后電池效率會(huì)發(fā)生極大的衰減,絕對(duì)效率會(huì)降低至1-2%,即所謂的光致衰減(LID:Light induced degradation)。
光致衰減現(xiàn)象最早在1973年由Fishcher等人發(fā)現(xiàn),并同時(shí)研究在黑暗條件下對(duì)電池加正向偏壓,也會(huì)發(fā)生電池效率衰減,即所謂的電致衰減(CID:Current induceddegradation)。
光致衰減常作為太陽(yáng)能電池品質(zhì)檢測(cè)的一個(gè)標(biāo)準(zhǔn),而電致衰減則極少作為標(biāo)準(zhǔn)。但是太陽(yáng)能電池的光致衰減過(guò)程經(jīng)常受到天氣等因素的影響,所以電致衰減的檢測(cè)逐漸被廣大研究人員所認(rèn)可,并探究其機(jī)理。
電致衰減一方面類似光致衰減,證實(shí)是由于硅片中導(dǎo)入過(guò)剩載流子使硅片中形成復(fù)合中心,即著名的B-O缺陷體或金屬雜質(zhì)缺陷。由于目前對(duì)電致衰減的檢測(cè)條件為小注入情況,溫度為100度左右,與多晶電池的光熱衰減(LETID:Light and elevatedtemperature induced degradation)測(cè)試溫度類似。目前廣大科研人員針對(duì)此類衰減提出機(jī)理:其一,由過(guò)量H產(chǎn)生雜質(zhì)復(fù)合中心(正面介質(zhì)膜H含量);其二,硅片基底內(nèi)金屬雜質(zhì)(Cu、Fe、Ni等)復(fù)合中心;其三,即上述B-O缺陷復(fù)合體;其四,背膜鈍化衰減現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容
本公開(kāi)的實(shí)施例提供了一種用于制造太陽(yáng)能電池的方法和相應(yīng)的太陽(yáng)能電池。
在本公開(kāi)的第一方面,提供了一種用于制造太陽(yáng)能電池的方法。該方法包括:提供由半導(dǎo)體材料構(gòu)成的基底,基底具有第一類型;通過(guò)擴(kuò)散技術(shù)在基底的正面處形成具有第二類型的第一半導(dǎo)體區(qū)域,第二類型與第一類型相反;在基底的背面提供鈍化膜;對(duì)基底的背面進(jìn)行激光開(kāi)槽,使得在鈍化膜處形成多個(gè)開(kāi)槽區(qū)域,其中在每個(gè)開(kāi)槽區(qū)域的寬度內(nèi)包括交替布置的第一部分和第二部分,第一部分表示以激光光斑對(duì)開(kāi)槽區(qū)域進(jìn)行開(kāi)槽的部分,第二部分表示不以激光光斑對(duì)開(kāi)槽區(qū)域進(jìn)行開(kāi)槽的部分;在基底的正面提供正電極,使得正電極與具有第二類型的第一半導(dǎo)體區(qū)域接觸;以及述基底的背面提供背電極,使得背電極通過(guò)開(kāi)槽區(qū)域與具有第一類型的基底接觸。
在本公開(kāi)的第二方面,提供了一種太陽(yáng)能電池。該太陽(yáng)能電池通過(guò)根據(jù)本公開(kāi)第一方面的方法制造。
在本公開(kāi)的第三方面,提供了一種太陽(yáng)能電池。該太陽(yáng)能電池包括:由半導(dǎo)體材料構(gòu)成的基底,基底具有第一類型;位于基底正面的第一半導(dǎo)體區(qū)域,第一半導(dǎo)體區(qū)域具有與第一類型相反的第二類型;正電極,正電極與第一半導(dǎo)體區(qū)域接觸;位于基底背面的鈍化膜,鈍化膜包括多個(gè)開(kāi)槽區(qū)域,其中在每個(gè)開(kāi)槽區(qū)域的寬度內(nèi)包括交替布置的第一部分和第二部分,第一部分表示以激光光斑對(duì)開(kāi)槽區(qū)域進(jìn)行開(kāi)槽的部分,第二部分表示不以激光光斑對(duì)開(kāi)槽區(qū)域進(jìn)行開(kāi)槽的部分;以及背電極,背電極通過(guò)開(kāi)槽區(qū)域與基底接觸。
提供發(fā)明內(nèi)容部分是為了以簡(jiǎn)化的形式來(lái)介紹對(duì)概念的選擇,它們?cè)谙挛牡木唧w實(shí)施方式中將被進(jìn)一步描述。發(fā)明內(nèi)容部分無(wú)意標(biāo)識(shí)本公開(kāi)的關(guān)鍵特征或必要特征,也無(wú)意限制本公開(kāi)的范圍。
附圖說(shuō)明
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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