[發(fā)明專利]用于制造太陽能電池的方法和太陽能電池在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910979683.2 | 申請日: | 2019-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN112670368A | 公開(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 呂錦滇;林綱正;陳剛 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江愛旭太陽能科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0224 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 趙林琳;張鵬 |
| 地址: | 321000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 制造 太陽能電池 方法 | ||
1.一種用于制造太陽能電池的方法,包括:
提供由半導(dǎo)體材料構(gòu)成的基底,所述基底具有第一類型;
通過擴散技術(shù)在所述基底的正面處形成具有第二類型的第一半導(dǎo)體區(qū)域,所述第二類型與所述第一類型相反;
在所述基底的背面提供鈍化膜;
對所述基底的背面進行激光開槽,使得在所述鈍化膜處形成多個開槽區(qū)域,其中在每個所述開槽區(qū)域的寬度內(nèi)包括交替布置的第一部分和第二部分,第一部分表示以激光光斑對所述開槽區(qū)域進行開槽的部分,第二部分表示不以激光光斑對所述開槽區(qū)域進行開槽的部分;
在所述基底的正面提供正電極,使得所述正電極與具有第二類型的所述第一半導(dǎo)體區(qū)域接觸;以及
在所述基底的背面提供背電極,使得所述背電極通過所述開槽區(qū)域與具有第一類型的所述基底接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中通過改變所述激光光斑的排列能夠調(diào)整所述開槽區(qū)域的開槽面積。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述激光光斑包括實線部分和虛線部分,所述激光光斑的實線部分的寬度限定所述開槽區(qū)域的第一部分的寬度,所述激光光斑的虛線部分的寬度限定所述開槽區(qū)域的第二部分的寬度,并且通過改變所述實線部分與所述虛線部分的比例來調(diào)整所述開槽區(qū)域的開槽面積。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其中所述實線部分的范圍為0.5mm-1mm,所述虛線部分的范圍為0.2mm-1mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的方法,其中通過激光頻率為700-950kHz、雕刻速度為20000-35000mm/s、激光光斑直徑為20-40μm、激光根數(shù)為149根的激光工藝來進行所述激光開槽。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的方法,其中所述開槽面積為165-400mm2。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的方法,還包括:
在通過擴散技術(shù)形成具有第二類型的所述第一半導(dǎo)體區(qū)域之前,對所述基底進行表面制絨。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的方法,還包括:
在所述基底的正面進行激光處理,以形成具有第二類型的第二半導(dǎo)體區(qū)域,所述第二半導(dǎo)體區(qū)域的摻雜濃度大于所述第一半導(dǎo)體區(qū)域的摻雜濃度;以及
對所述基底的背面和四周進行刻蝕,以去除位于所述基底的背面和四周處的與所述第一半導(dǎo)體區(qū)域具有相同類型的部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的方法,還包括:
在所述第一半導(dǎo)體區(qū)域的上方提供減反膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其中,
所述減反膜通過SiNx沉積形成。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的方法,其中,
所述鈍化膜通過Al2O3/SiNx沉積形成。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的方法,其中,
所述太陽能電池是PERC雙面電池。
13.一種太陽能電池,其中所述太陽能電池根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項所述的方法制造。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





