[發明專利]修正掩膜圖案的方法

在審

• 申請號: 201910976793.3
• 申請日: 2019-10-11
• 公開（公告）號: CN112650020A
• 公開（公告）日: 2021-04-13
• 發明（設計）人: 王良;候永強
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司;中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: G03F1/36
• 分類號: G03F1/36;H01L21/308
• 代理公司: 北京市一法律師事務所 11654
• 代理人: 劉榮娟

1.一種修正掩膜圖案的方法，其特征在于，

所述掩膜圖案包括：

第一圖形；以及

第二圖形，與所述第一圖形相交于一點，

所述方法包括：

形成第三圖形，所述第三圖形位于所述第一圖形和所述第二圖形的交點附近并被配置為防止所述第一圖形或所述第二圖形的、穿過所述交點的邊線在OPC之后發生位移。

2.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述第三圖形的第一邊線與所述第一圖形的穿過所述交點的第一邊線共線。

3.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述第三圖形的第二邊線與所述第二圖形的穿過所述交點的第一邊線共線。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第三圖形的最長邊的長度不超過所述OPC中的最小邊緣片段的長度。

5.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，還包括：

第四圖形，位于所述交點附近并被配置為防止所述第一圖形或所述第二圖形的、穿過所述交點的邊線在OPC之后發生位移。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述第四圖形的第一邊線與所述第一圖形的穿過所述交點的第二邊線共線。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述第四圖形的第二邊線與所述第二圖形的穿過所述交點的第二邊線共線。

8.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述第四圖形的最長邊的長度不超過所述OPC中的最小邊緣片段的長度。

9.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述第一圖形、所述第二圖形、所述第三圖形和所述第四圖形均為矩形。

10.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述第三圖形和所述第四圖形均為正方形。