[發(fā)明專利]一種用于L型試樣局部電化學研究的電解池及其應用

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• 申請日: 2019-10-09
• 公開（公告）號: CN110501281A
• 公開（公告）日: 2019-11-26
• 發(fā)明（設計）人: 牛林;徐文東;趙容萱
• 申請（專利權）人: 山東大學
• 主分類號: G01N17/02
• 分類號: G01N17/02;G01N17/00;G01N17/04
• 代理公司: 37219 濟南金迪知識產權代理有限公司
• 代理人: 趙龍群<國際申請>=<國際公布>=<進入

本發(fā)明涉及一種用于L型試樣局部電化學研究的電解池及其應用，屬于電化學電解池技術領域。該電解池包括上部結構和下部結構，上部結構采用矩形框架設計，上部結構的左側壁和后側壁分別開設溝槽，下部結構為長方體結構，下部結構一側設有凹槽，上部結構和下部結構連接，內部形成電解槽。本發(fā)明上部結構中兩側壁的溝槽能滿足彎曲金屬試樣以90°穿過電解槽，使所述彎曲金屬試樣的工作面處于電解質溶液中，可以測試殘余應力對彎曲金屬試樣腐蝕的影響。

技術領域

本發(fā)明涉及一種用于L型試樣局部電化學研究的電解池及其應用，屬于電化學電解池技術領域。

背景技術

現(xiàn)有技術中，通常用于局部電化學測量的電解池，大多數(shù)僅僅適用于測量柱狀材料截面或者板材表面；在使用過程中，對于測試殘余應力對L型彎曲金屬試樣(簡稱L型試樣)腐蝕的影響有一定的局限性。

中國專利CN102183678A公開一種用于掃描電化學顯微鏡的多功能電解池，該電解池包括呈凹形、內側設有螺紋I的上蓋和下蓋及兩端帶與所述螺紋I相匹配的螺紋II并且內裝電解質溶液的雙層圓筒。該發(fā)明通過下蓋的不同結構，可完成三電極、四電極以及更復雜體系的實驗。該電解池附帶一個盛放電解質溶液的雙層圓筒，結構較復雜，工作電極通過一個圓孔設置，工作面依然為柱狀材料(如金屬或合金)的工作面。有鑒于此，研發(fā)一種用于L型試樣腐蝕研究的掃描電化學顯微鏡電解池是十分有必要的。

發(fā)明內容

針對現(xiàn)有技術的不足，本發(fā)明提供一種用于L型試樣局部電化學研究的電解池，其可以測試殘余應力對L型試樣的腐蝕影響。

本發(fā)明還提供一種利用上述電解池對L型試樣開展電化學研究的實驗方法。

本發(fā)明的技術方案如下：

一種用于L型試樣局部電化學研究的電解池，包括上部結構和下部結構，上部結構采用矩形框架設計，上部結構的左側壁和后側壁分別開設溝槽，下部結構為長方體結構，下部結構設有凹槽，上部結構和下部結構連接，上部結構和下部結構內部形成電解槽。

優(yōu)選的，在上部結構的右側壁上垂直嵌設與電解槽直接相連的第一圓孔和第二圓孔，第一圓孔和第二圓孔分別用來放置參比電極和輔助電極。

進一步優(yōu)選的，第一圓孔和第二圓孔通過在右側壁內設置的矩形通道與電解槽連通。

優(yōu)選的，第一圓孔和第二圓孔的高度為17mm，第一圓孔和第二圓孔的直徑為4-6mm。

優(yōu)選的，上部結構的前側壁為透明材質，通過前側壁形成的視窗，利用長焦距顯微鏡實施對掃描電化學顯微鏡Pt微探針與試樣之間距離調控的輔助監(jiān)測。

優(yōu)選的，上部結構的兩側與下部結構的兩側對應設置四個螺紋孔，上部結構與下部結構通過螺栓固定連接。

進一步優(yōu)選的，上部結構和下部結構之間設置密封墊，密封墊的外形與上部結構的橫截面的形狀相同，提高裝置的密閉性。

優(yōu)選的，在下部結構一側中間位置設置凹槽，凹槽為矩形凹槽，其外形尺寸如下，長度范圍：20-24mm，寬度范圍：12-16mm，高度范圍：4-5mm。

優(yōu)選的，下部結構的外形尺寸如下：長度范圍：48-54mm，寬度范圍：42-46mm，高度范圍：10-14mm。

優(yōu)選的，上部結構的外形尺寸如下，長度范圍：48-54mm，寬度范圍：42-46mm，高度范圍：18-24mm；上部結構的框架所圍成矩形的尺寸如下，長度范圍：24-28mm，寬度范圍：20-24mm；溝槽的尺寸如下，寬度范圍：7-9mm，深度范圍：3-4mm。

一種用于L型試樣局部電化學研究的電解池的實驗方法，包括步驟如下：