[發明專利]顯示裝置及顯示裝置的制造方法在審
| 申請號: | 201910949309.8 | 申請日: | 2019-10-08 |
| 公開(公告)號: | CN111009543A | 公開(公告)日: | 2020-04-14 |
| 發明(設計)人: | 梁東炫;柳仁卿;朱成培 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/15 | 分類號: | H01L27/15 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 張逍遙;劉燦強 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 制造 方法 | ||
1.一種顯示裝置,所述顯示裝置包括:
像素電路;
第一絕緣層,覆蓋所述像素電路;
第一阻擋件,設置在所述第一絕緣層上并且在第一方向上延伸;
第二阻擋件,在所述第一方向上延伸并且在垂直于所述第一方向的第二方向上與所述第一阻擋件間隔開;
第一電極,設置在所述第一阻擋件上并且電連接到所述像素電路;
第二電極,設置在所述第二阻擋件上并且與所述第一電極分開;
第二絕緣層,設置在所述第一電極和所述第二電極上,并且研磨槽沿所述第二方向設置在所述第二絕緣層中;以及
發光元件,在所述第二絕緣層上沿著所述研磨槽對齊并電連接到所述第一電極和所述第二電極,并且設置在所述第一阻擋件和所述第二阻擋件之間。
2.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述第二絕緣層由聚酰亞胺類材料形成。
3.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述發光元件的在所述第一方向上的寬度小于或等于所述研磨槽的在所述第一方向上的寬度。
4.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述第一阻擋件和所述第二阻擋件之間的在所述第二方向上的距離大于所述第一電極和所述第二電極之間的在所述第二方向上的距離,并且
所述第一電極和所述第二電極之間的在所述第二方向上的所述距離小于所述發光元件的在所述第二方向上的長度。
5.根據權利要求1所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括:
第一連接電極,電連接所述第一電極和所述發光元件;以及
第二連接電極,電連接所述第二電極和所述發光元件。
6.根據權利要求1所述的顯示裝置,其中,所述第一電極包括電連接到所述像素電路并且包含第一反射材料的第一反射電極和覆蓋所述第一反射電極的第一蓋電極,并且
所述第二電極包括被構造為接收電源電壓并包含反射材料的第二反射電極和覆蓋所述第二反射電極的第二蓋電極。
7.一種顯示裝置的制造方法,所述制造方法包括下述步驟:
在基體層上形成像素電路;
形成覆蓋所述像素電路的第一絕緣層;
在所述第一絕緣層上形成在第一方向上延伸并在第二方向上彼此分開設置的第一阻擋件和第二阻擋件;
在所述第一阻擋件上形成電連接到所述像素電路的第一電極并且在所述第二阻擋件上形成與所述第一電極分開的第二電極;
在所述第一絕緣層、所述第一電極和所述第二電極上形成絕緣材料層;
在所述絕緣材料層上沿所述第二方向形成研磨槽以形成第二絕緣層;
在所述第一阻擋件和所述第二阻擋件之間將發光元件設置在所述第二絕緣層上;以及
沿著所述研磨槽對齊所述發光元件。
8.根據權利要求7所述的制造方法,其中,所述形成所述第二絕緣層的步驟包括:
在所述絕緣材料層上設置研磨輥,研磨布纏繞在所述研磨輥周圍;以及
在使所述研磨輥滾動的同時在所述第二方向上移動所述研磨輥以沿所述第二方向形成所述研磨槽。
9.根據權利要求8所述的制造方法,其中,所述研磨布設置有研磨銼,并且
根據所述發光元件的在所述第一方向上的寬度來不同地設定所述研磨銼的厚度。
10.根據權利要求9所述的制造方法,其中,所述發光元件的在所述第一方向上的所述寬度小于或等于所述研磨槽的在所述第一方向上的寬度。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





