[發(fā)明專(zhuān)利]濃度的調(diào)節(jié)方法及調(diào)節(jié)系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910947661.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110828338B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-08-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邱宇淵;徐融 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 長(zhǎng)江存儲(chǔ)科技有限責(zé)任公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 廣州三環(huán)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強(qiáng) |
| 地址: | 430074 湖北省武漢市洪山區(qū)東*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 濃度 調(diào)節(jié) 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種濃度的調(diào)節(jié)方法,其特征在于,所述調(diào)節(jié)方法包括:
提供待清洗工件,將所述待清洗工件置入盛放有第一化學(xué)溶液的第一容器中,所述第一化學(xué)溶液包括溶劑,或者所述第一化學(xué)溶液包括溶質(zhì)和所述溶劑,所述溶質(zhì)包括預(yù)設(shè)粒子;
提供第二容器,所述第二容器用于裝載第二化學(xué)溶液,所述第二化學(xué)溶液為含有所述預(yù)設(shè)粒子的標(biāo)準(zhǔn)溶液,且所述第二化學(xué)溶液可進(jìn)入所述第一容器中;
檢測(cè)所述第一容器中的第一預(yù)設(shè)粒子濃度,且檢測(cè)所述第二容器中的第二預(yù)設(shè)粒子濃度;以及
當(dāng)所述第一預(yù)設(shè)粒子濃度小于目標(biāo)預(yù)設(shè)粒子濃度時(shí),控制所述第二容器中的部分所述第二化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器中,以使得部分所述第二化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器后的所述第一預(yù)設(shè)粒子濃度與所述目標(biāo)預(yù)設(shè)粒子濃度相等。
2.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)方法,其特征在于,在“控制所述第二容器中的部分所述第二化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器中”之前,所述調(diào)節(jié)方法還包括:
檢測(cè)所述第一容器中的所述第一化學(xué)溶液的體積;
“控制所述第二容器中的部分所述第二化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器中”包括:
根據(jù)所述目標(biāo)預(yù)設(shè)粒子濃度、所述第一預(yù)設(shè)粒子濃度、所述第一化學(xué)溶液的體積、以及所述第二預(yù)設(shè)粒子濃度建立第一模型;
根據(jù)所述第一模型來(lái)控制所述第二容器中的部分所述第二化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器。
3.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)方法,其特征在于,所述調(diào)節(jié)方法還包括:
提供第三容器,所述第三容器用于裝載第三化學(xué)溶液,所述第三化學(xué)溶液為所述溶劑,且所述第三化學(xué)溶液可進(jìn)入所述第一容器中;
當(dāng)所述第一預(yù)設(shè)粒子濃度大于所述目標(biāo)預(yù)設(shè)粒子濃度時(shí),控制所述第三容器中的部分所述第三化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器中,以使得部分所述第三化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器后的所述第一預(yù)設(shè)粒子濃度與所述目標(biāo)預(yù)設(shè)粒子濃度相等。
4.如權(quán)利要求3所述的調(diào)節(jié)方法,其特征在于,“控制所述第三容器中的部分所述第三化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器中”包括:
根據(jù)所述目標(biāo)預(yù)設(shè)粒子濃度、所述第一預(yù)設(shè)粒子濃度、以及所述第一化學(xué)溶液的體積建立第二模型;
根據(jù)所述第二模型來(lái)控制所述第三容器中的部分所述第三化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器。
5.如權(quán)利要求3所述的調(diào)節(jié)方法,其特征在于,所述調(diào)節(jié)方法還包括:
提供第四容器,所述第四容器與所述第一容器連通;
當(dāng)所述第一預(yù)設(shè)粒子濃度大于所述目標(biāo)預(yù)設(shè)粒子濃度時(shí),控制所述第一容器中的部分所述第一化學(xué)溶液進(jìn)入所述第四容器中;以及
控制所述第三容器中的部分所述第三化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器中,以使得部分所述第三化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器后的所述第一預(yù)設(shè)粒子濃度與所述目標(biāo)預(yù)設(shè)粒子濃度相等。
6.如權(quán)利要求5所述的調(diào)節(jié)方法,其特征在于,“控制所述第三容器中的部分所述第三化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器中”包括:
根據(jù)所述目標(biāo)預(yù)設(shè)粒子濃度、所述第一預(yù)設(shè)粒子濃度、所述第一化學(xué)溶液的體積、以及進(jìn)入所述第四容器中的部分所述第一化學(xué)溶液的體積建立第三模型;
根據(jù)所述第三模型來(lái)控制所述第三容器中的部分所述第三化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器。
7.如權(quán)利要求5所述的調(diào)節(jié)方法,其特征在于,所述調(diào)節(jié)方法還包括:
提供循環(huán)裝置,所述循環(huán)裝置連接所述第一容器,所述循環(huán)裝置用于除去所述第一容器中的所述第一化學(xué)溶液中的雜質(zhì);
所述第二容器連接所述循環(huán)裝置,所述第二容器向所述循環(huán)裝置中加入所述第二化學(xué)溶液,以使所述第二化學(xué)溶液進(jìn)入所述第一容器中;
所述第四容器連接所述循環(huán)裝置,所述第一容器中的第一化學(xué)溶液進(jìn)入所述循環(huán)裝置中,再?gòu)乃鲅h(huán)裝置中進(jìn)入所述第四容器;
檢測(cè)所述循環(huán)裝置中的所述第一預(yù)設(shè)粒子濃度以得到所述第一容器中所述第一預(yù)設(shè)粒子濃度。
8.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)方法,其特征在于,所述調(diào)節(jié)方法還包括:
攪拌所述第一容器中的所述第一化學(xué)溶液,以使得所述溶質(zhì)分散均勻。
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H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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