[發明專利]一種二次元坐標系旋轉補償測量方法及裝置

有效

• 申請號: 201910937645.0
• 申請日: 2019-09-30
• 公開（公告）號: CN110690135B
• 公開（公告）日: 2022-02-01
• 發明（設計）人: 龔成文;溫永闊;胡靖
• 申請（專利權）人: 武漢東飛凌科技有限公司
• 主分類號: H01L21/66
• 分類號: H01L21/66
• 代理公司: 武漢河山金堂專利事務所(普通合伙) 42212
• 代理人: 胡清堂

1.一種二次元坐標系旋轉補償測量方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1，建立管座基礎坐標系；具體包括，以夾具的X軸邊線和Y軸邊線畫線，并以所述X軸邊線和Y軸邊線的交點為原點；

S2，通過影像測量畫出所述管座的外圓和所述管座的兩個絕緣子的圓；具體包括，將所述兩個絕緣子的圓的圓心連接起來構造擬合線；

S3，將所述管座基礎坐標系的坐標原點平移至所述管座的外圓的圓心，將所述管座基礎坐標系按照擬合線的角度進行旋轉并保存旋轉補償后的坐標系；

S4，再次通過影像測量畫出所述管座芯片光敏區域，根據所述旋轉補償后的坐標系的X軸和所述管座芯片光敏區域的圓心構造虛擬直角三角形，得到一個虛擬角度和所述管座芯片光敏區域相對于管座圓心的距離，根據直角三角形函數求得兩條直角邊距離，從而得到所述管座芯片光敏區域相對于旋轉補償后的坐標系的坐標位置；

S5，根據所述管座芯片光敏區域相對于旋轉補償后的坐標系的坐標位置對所述管座固晶位置進行調節。

2.一種二次元坐標系旋轉補償測量裝置，其特征在于，包括：

測量模塊(1)，建立管座基礎坐標系；具體包括，以夾具的X軸邊線和Y軸邊線畫線，并以所述X軸邊線和Y軸邊線的交點為原點；通過影像測量畫出所述管座的外圓、管座的兩個絕緣子的圓和管座的芯片光敏區域；將所述兩個絕緣子的圓的圓心連接起來構造擬合線；

計算模塊(2)，將所述管座基礎坐標系的坐標原點平移至所述管座圓心，將所述管座基礎坐標系按照擬合線的角度進行旋轉并保存旋轉補償后的坐標系；根據所述旋轉補償后的坐標系的X軸和所述管座芯片光敏區域的圓心構造虛擬直角三角形，得到一個虛擬角度和所述管座芯片光敏區域相對于管座圓心的距離，根據直角三角形函數求得兩條直角邊距離，得到所述管座芯片光敏區域相對于旋轉補償后的坐標系的坐標位置；

位置調整模塊(3)，根據所述管座芯片光敏區域相對于旋轉補償后的坐標系坐標位置對所述管座固晶位置進行調節。