[發(fā)明專利]基板處理裝置和檢查方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910936746.6
• 申請日: 2019-09-29
• 公開（公告）號: CN111009478A
• 公開（公告）日: 2020-04-14
• 發(fā)明（設計）人: 濱田佳志;桾本裕一朗;羽山隆史
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/677;H01L21/687;G03F7/30
• 代理公司: 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種基板處理裝置，對被處理基板進行處理，所述基板處理裝置具有：

旋轉(zhuǎn)保持部，其保持被處理基板并使該被處理基板旋轉(zhuǎn)；

攝像部，該攝像部的攝像區(qū)域包括被所述旋轉(zhuǎn)保持部保持的被處理基板的表面；

光源，其向所述攝像部的所述攝像區(qū)域照射光；

檢查部，其基于所述攝像部的攝像結(jié)果來進行檢查；以及

選擇部，其基于得到該攝像結(jié)果時的被處理基板的朝向來選擇要在所述檢查中使用的攝像結(jié)果。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，還具有：

事前獲取部，在所述檢查之前，該事前獲取部獲取被所述旋轉(zhuǎn)保持部保持的被處理基板的朝向互不相同的多個狀態(tài)的攝像結(jié)果；以及

判定部，其基于所述多個狀態(tài)的攝像結(jié)果來判定在所述檢查用的攝像時不適當?shù)谋惶幚砘宓某颍?/p>

其中，所述選擇部基于所述判定部的判定結(jié)果來選擇要在所述檢查中使用的攝像結(jié)果。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述選擇部基于由所述判定部得到的所述不適當?shù)谋惶幚砘宓某虻呐卸ńY(jié)果、所述檢查用的攝像時的被處理基板的轉(zhuǎn)速以及所述檢查用的攝像時的所述攝像部的幀頻，來選擇要在所述檢查中使用的攝像結(jié)果。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述檢查部基于所述攝像結(jié)果的檢查對象區(qū)域的信息來進行檢查。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述檢查對象區(qū)域為多個，

所述選擇部針對每個所述檢查對象區(qū)域選擇要在所述檢查中使用的攝像結(jié)果。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，

在所述檢查期間，所述檢查對象區(qū)域移動，

所述選擇部針對所述檢查中的各時間點的每個所述檢查對象區(qū)域，判定是否在所述檢查中使用設定有該檢查對象區(qū)域的攝像結(jié)果，基于該判定的結(jié)果來選擇要在所述檢查中使用的攝像結(jié)果。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述檢查部進行多種所述檢查，

針對每種所述檢查設置所述光源，

針對每個攝像幀設定所述檢查的種類和所述光源的種類。

8.一種檢查方法，用于檢查對被處理基板進行處理的基板處理裝置，

所述基板處理裝置具有：

旋轉(zhuǎn)保持部，其保持被處理基板并使該被處理基板旋轉(zhuǎn)；

攝像部，該攝像部的攝像區(qū)域包括被所述旋轉(zhuǎn)保持部保持的被處理基板的表面；以及

光源，其向所述攝像部的所述攝像區(qū)域照射光，

所述檢查方法包括以下工序：

選擇要在所述檢查中使用的攝像結(jié)果，該選擇是基于得到該攝像結(jié)果時的被處理基板的朝向來進行的；以及

基于所述攝像部的攝像結(jié)果來進行檢查。