[發明專利]彩膜基板及其制造方法、顯示裝置

有效

• 申請號: 201910918363.6
• 申請日: 2019-09-26
• 公開（公告）號: CN110579901B
• 公開（公告）日: 2023-01-13
• 發明（設計）人: 李文波
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方技術開發有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 楊廣宇

本發明公開了一種彩膜基板及其制造方法、顯示裝置，屬于顯示技術領域。該方法包括：在透明襯底的第一表面上形成黑矩陣圖形和第一對位圖形；采用遮光板遮擋黑矩陣圖形，并在透明襯底的第二表面上形成第二對位圖形，以使第二對位圖形在透明襯底上的正投影與第一對位圖形在透明襯底上的正投影錯開；基于第二對位圖形，在透明襯底的第二表面上形成光柵結構。由于該第二對位圖形與后續需要形成的光柵結構位于透明襯底的同一側，因此基于該第二對位圖形，可以提高用于形成光柵結構的掩膜板與透明襯底的對位精度，進而提高了在透明基板的第二表面上形成的光柵結構的精度，使得通過該彩膜基板制備出的顯示裝置的防窺效果較好。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別涉及一種彩膜基板及其制造方法、顯示裝置。

背景技術

為了避免諸如手機或平板電腦等顯示裝置所顯示的內容被窺視，市面上出現一些具有防窺功能的顯示裝置。

目前，可以在顯示裝置的出光側形成光柵結構，通過該光柵結構減小顯示裝置的可視角范圍，以實現防窺功能。顯示裝置通常包括：相對的顯示基板和彩膜基板，該光柵結構位于彩膜基板遠離顯示基板的一側。通常情況下，光柵結構可以直接形成在彩膜基板中遠離顯示基板一側的表面上，在形成光柵結構的過程中，需要將用于形成光柵結構的掩膜板與彩膜基板對位，在相關技術中，主要基于彩膜基板靠近顯示基板一面上的對位圖形將掩膜板與彩膜基板對位。

但是，由于彩膜基板中的透明襯底的厚度較大，基于彩膜基板靠近顯示基板一側上的對位圖形將掩膜板與彩膜基板對位的對位精度較低，導致最終形成的光柵結構的精度較低，影響了顯示裝置的防窺效果。

發明內容

本發明實施例提供了一種彩膜基板及其制造方法、顯示裝置。可以解決現有技術的制造出的光柵結構的精度較低，影響了顯示裝置的防窺效果問題，所述技術方案如下：

第一方面，提供了一種彩膜基板的制造方法，所述方法包括：

在透明襯底的第一表面上形成黑矩陣圖形和第一對位圖形；

采用遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，并在所述透明襯底的第二表面上形成第二對位圖形，以使所述第二對位圖形在所述透明襯底上的正投影與所述第一對位圖形在所述透明襯底上的正投影錯開；

基于所述第二對位圖形，在所述透明襯底的第二表面上形成光柵結構。

可選的，所述采用遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，并在所述透明襯底的第二表面上形成第二對位圖形，包括：

在所述透明襯底的第二表面上形成第二遮光膠層；

采用所述遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，并對所述第二遮光膠層進行曝光；

對曝光后的第二遮光膠層進行顯影，在所述透明襯底的第二表面上形成所述第二對位圖形。

可選的，所述采用遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，對所述第二遮光膠層進行曝光，包括：

采用所述遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，并采用目標掩膜板和曝光源對所述第二遮光膠層進行曝光；

其中，所述遮光板位于所述曝光源與所述透明襯底的第二表面之間，所述目標掩膜板包括：襯底基板，以及位于所述襯底基板上的遮光圖形和透光圖形，所述遮光圖形的結構與所述第一對位圖形的結構相同，所述透光圖形的結構與所述黑矩陣圖形的結構相同。

可選的，采用所述遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，對所述第二遮光膠層進行曝光，包括：

采用所述遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，并采用曝光源對所述第二遮光膠層進行曝光；

其中，所述遮光板位于所述曝光源與所述透明襯底的第一表面之間。

可選的，所述第二遮光膠層為負性膠層。