[發(fā)明專利]彩膜基板及其制造方法、顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910918363.6 | 申請日： | 2019-09-26 |
| 公開（公告）號： | CN110579901B | 公開（公告）日： | 2023-01-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李文波 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方技術(shù)開發(fā)有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1335 | 分類號： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138 | 代理人： | 楊廣宇 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 彩膜基板 及其 制造 方法 顯示裝置 | ||
1.一種彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
在透明襯底的第一表面上形成黑矩陣圖形和第一對位圖形；
采用遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，并在所述透明襯底的第二表面上形成第二對位圖形，以使所述第二對位圖形在所述透明襯底上的正投影與所述第一對位圖形在所述透明襯底上的正投影錯開；
基于所述第二對位圖形，在所述透明襯底的第二表面上形成光柵結(jié)構(gòu)；
其中，所述遮光板在所述透明襯底上的正投影覆蓋所述黑矩陣圖形在所述透明襯底上的正投影；
在所述透明襯底的第二表面上形成所述第二對位圖形的過程包括：將與所述第一對位圖形的結(jié)構(gòu)相同的目標(biāo)圖形作為掩膜，并基于所述目標(biāo)圖形在所述透明基板的第二表面上形成所述第二對位圖形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，并在所述透明襯底的第二表面上形成第二對位圖形，包括：
在所述透明襯底的第二表面上形成第二遮光膠層；
采用所述遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，并對所述第二遮光膠層進行曝光；
對曝光后的第二遮光膠層進行顯影，在所述透明襯底的第二表面上形成所述第二對位圖形。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述采用遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，對所述第二遮光膠層進行曝光，包括：
采用所述遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，并采用目標(biāo)掩膜板和曝光源對所述第二遮光膠層進行曝光；
其中，所述遮光板位于所述曝光源與所述透明襯底的第二表面之間，所述目標(biāo)掩膜板包括：襯底基板，以及位于所述襯底基板上的遮光圖形和透光圖形，所述遮光圖形的結(jié)構(gòu)與所述第一對位圖形的結(jié)構(gòu)相同，所述透光圖形的結(jié)構(gòu)與所述黑矩陣圖形的結(jié)構(gòu)相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，采用所述遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，對所述第二遮光膠層進行曝光，包括：
采用所述遮光板遮擋所述黑矩陣圖形，并采用曝光源對所述第二遮光膠層進行曝光；
其中，所述遮光板位于所述曝光源與所述透明襯底的第一表面之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求2至4任一所述的方法，其特征在于，所述第二遮光膠層為負性膠層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，基于所述第二對位圖形，在所述透明襯底的第二表面上形成光柵結(jié)構(gòu)，包括：
在所述透明襯底的第二表面上依次形成反光層和第三遮光膠層；
基于所述第二對位圖形，對所述反光層和所述第三遮光膠層進行圖形化處理，形成所述光柵結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，所述在透明襯底的第一表面上形成黑矩陣圖形和第一對位圖形，包括：
在所述透明襯底的第一表面上形成第一遮光膠層；
對所述第一遮光膠層進行圖形化處理，形成所述黑矩陣圖形和所述第一對位圖形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，所述在透明襯底的第一表面上形成黑矩陣圖形和第一對位圖形之后，所述方法還包括：
在所述黑矩陣圖形和所述第一對位圖形上形成第一保護層；
基于所述第一對位圖形，在所述第一保護層上形成彩色濾光片；
基于所述第二對位圖形，在所述透明襯底的第二表面上形成光柵結(jié)構(gòu)之后，所述方法還包括：
在所述光柵結(jié)構(gòu)上形成第二保護層。
9.一種彩膜基板，其特征在于，包括：由權(quán)利要求1至8任一所述的方法制造出的彩膜基板；
所述彩膜基板包括：透明襯底，位于所述透明襯底的第一表面上的黑矩陣圖形和第一對位圖形，以及位于所述透明襯底的第二表面上的第二對位圖形和光柵結(jié)構(gòu)；
其中，所述第一對位圖形在所述透明襯底上的正投影與所述第二對位圖形在所述透明襯底上的正投影錯開；
在所述透明襯底的第二表面上形成所述第二對位圖形的過程包括：將與所述第一對位圖形的結(jié)構(gòu)相同的目標(biāo)圖形作為掩膜，并基于所述目標(biāo)圖形在所述透明基板的第二表面上形成所述第二對位圖形。
10.一種顯示裝置，其特征在于，包括：顯示基板和權(quán)利要求9所述的彩膜基板，所述顯示基板位于靠近所述彩膜基板的第一表面的一側(cè)。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
