[發明專利]一種展青霉素分子印跡納米纖維膜的制備方法

有效

• 申請號: 201910905475.8
• 申請日: 2019-09-24
• 公開（公告）號: CN110560016B
• 公開（公告）日: 2022-09-16
• 發明（設計）人: 邵華;佘永新;趙民娟;王靜;金芬;金茂俊;王珊珊;王淼;曹振
• 申請（專利權）人: 中國農業科學院農業質量標準與檢測技術研究所
• 主分類號: B01J20/28
• 分類號: B01J20/28;B01J20/285;B01D71/38;B01D67/00;B01D15/08
• 代理公司: 北京德崇智捷知識產權代理有限公司 11467
• 代理人: 高琦

1.一種展青霉素分子印跡納米纖維膜的制備方法，其特征在于：

包括以下步驟：

A制備展青霉素分子印跡聚合物：將2-吲哚酮標準品和6-羥基煙酸標準品按照摩爾比1：1-4溶解在甲醇中，隨后加入3-氨丙基三乙氧基硅烷進行磁力攪拌進行預聚合10-50min，加入四乙氧基硅烷和滴加1-10mL催化劑氨水，磁力攪拌15-90min后將反應物放入30-80℃水浴鍋孵化反應4-24h得到聚合物固體，模板分子為2-吲哚酮和6-羥基煙酸，所述3-氨丙基三乙氧基硅烷與所述模板分子的摩爾比為2-15:1， 所述四乙氧基硅烷與所述模板分子摩爾比為2-20:1，所述氨水濃度為0.05-2mol/L；

B洗脫聚合物固體：將所述聚合物固體用甲醇沖洗2-5次后，40-80℃下真空干燥老化4-24h后，將干燥后的聚合物置圓底燒瓶中，加入一次有機溶劑進行預洗脫，磁力攪拌2-8h，用甲醇沖洗后置于40-80℃下真空干燥4-12h后將所述聚合物固體用二次有機溶劑洗脫模板，直至紫外分光光度計檢測不到模板分子；

C制備分子印跡納米纖維膜：將含有分子印跡聚合物MIP的4％-10％的聚乙烯醇PVA紡絲溶液在紡絲電壓為8-23kv，紡絲距離為8-20cm，流速10-40μL/min，相對濕度40％～50％的條件下進行靜電紡絲，紡絲結束后得到分子印跡納米纖維膜，其中，所述聚乙烯醇PVA紡絲溶液包括聚乙烯醇、超純水、甲醇和聚合物固體粉末，將所述聚合物固體粉末在甲醇中超聲分散均勻，所述聚乙烯醇在90℃的純水中加熱攪拌直至完全溶解后冷卻至室溫，將聚合物甲醇分散液與所述聚乙烯醇溶液按照體積比1：2-4，其中分子印跡聚合物占聚乙烯醇按質量分數的10％-40％，超聲混合均勻得到4％-10％的聚乙烯醇紡絲溶液；

D靜電紡絲纖維膜的交聯：將制備的分子印跡納米纖維膜浸泡在1-6％的戊二醛水溶液中，交聯10-60min后，將所述分子印跡納米纖維膜真空干燥8-24h，密封得到所述展青霉素分子印跡納米纖維膜。

2.根據權利要求 1 所述的展青霉素分子印跡納米纖維膜的制備方法，其特征在于:所述一次有機溶劑為乙酸和甲醇，所述乙酸和甲醇的體積比為 1-5:7，所述二次有機溶劑為乙酸和甲醇，所述乙酸和甲醇的體積比為 1-4:9。

3.根據權利要求 1 所述的展青霉素分子印跡納米纖維膜的制備方法，其特征在于，所述的靜電紡絲時間為 0.5h-10h。

4.根據權利要求1 所述制備方法制備得到的展青霉素分子印跡納米纖維膜在吸附展青霉素中的應用。