[發(fā)明專利]曝光裝置以及物品的制造方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910902159.5
• 申請(qǐng)日: 2019-09-24
• 公開（公告）號(hào): CN110967935A
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 中島猛;關(guān)美津留;遠(yuǎn)藤淳生
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 許海蘭

提供一種能夠通過簡(jiǎn)易的結(jié)構(gòu)使投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑變化的曝光裝置以及物品的制造方法。在具有將掩模的圖案投影于基板的投影光學(xué)系統(tǒng)的曝光裝置中，在投影光學(xué)系統(tǒng)的曲面形狀的光瞳面或者其近旁配置第一光闌和第二光闌，該第一光闌為規(guī)定第一尺寸的開口徑的固定光闌，該第二光闌規(guī)定比第一尺寸小的第二尺寸的開口徑。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及曝光裝置以及物品的制造方法。

背景技術(shù)

在使用光刻技術(shù)制造半導(dǎo)體元件、液晶顯示元件等器件時(shí)，使用了利用投影光學(xué)系統(tǒng)將掩模的圖案投影于基板來轉(zhuǎn)印圖案的曝光裝置。

隨著圖案的細(xì)微化，需要曝光裝置的分辨率的進(jìn)一步的提高，作為用于使分辨率提高的方法，已知使構(gòu)成曝光裝置的投影光學(xué)系統(tǒng)的NA(數(shù)值孔徑)變大。半導(dǎo)體元件、液晶顯示元件等器件是將形成有圖案的多個(gè)層層疊而制造的。在該多個(gè)層中包括圖案的線寬比較粗的粗糙層、圖案的線寬比較窄的臨界層(Critical layer)。

在形成粗糙層時(shí)所需要的曝光裝置的分辨率與在形成臨界層時(shí)所需要的曝光裝置的分辨率不同。也就是說，形成粗糙層時(shí)的投影光學(xué)系統(tǒng)的NA與形成臨界層時(shí)的投影光學(xué)系統(tǒng)的NA通常不同。

為了使投影光學(xué)系統(tǒng)的NA變化，日本特開2002-372735號(hào)公報(bào)公開了一種光闌裝置，該光闌裝置使設(shè)置于將曝光光遮光的遮光板的移動(dòng)件沿著在投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向具有曲率的軌道移動(dòng)。據(jù)此，能夠使利用遮光板形成的開口的尺寸和在投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向上的該開口的位置同時(shí)地變化。

在日本特開2002-372735號(hào)公報(bào)的光闌裝置中，為了使設(shè)置于遮光板的移動(dòng)件沿著曲線移動(dòng)，使移動(dòng)件移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可能變得復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容

解決上述課題的本發(fā)明的曝光裝置為具有將掩模的圖案投影于基板的投影光學(xué)系統(tǒng)的曝光裝置，所述曝光裝置的特征在于，所述投影光學(xué)系統(tǒng)包括：第一光闌，為規(guī)定第一尺寸的開口徑的固定光闌；以及第二光闌，包括多個(gè)遮光板，該第二光闌規(guī)定比所述第一尺寸小的第二尺寸的開口徑，所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面為曲面形狀，所述第一光闌以及所述第二光闌分別配置于所述光瞳面或者所述光瞳面的近旁。

通過以下的示例性實(shí)施例的描述(參照附圖)，本發(fā)明的其他特征將變得更清楚。

附圖說明

圖1為曝光裝置的概略圖。

圖2為實(shí)施例1的NA光闌的概略圖。

圖3為示出NA光闌的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的概略圖。

圖4為示出NA光闌的驅(qū)動(dòng)機(jī)制的概略圖。

圖5為示出低NA時(shí)的NA光闌的圖。

圖6為示出高NA時(shí)的NA光闌的圖。

圖7為實(shí)施例2的NA光闌的概略圖。

圖8為實(shí)施例3的NA光闌的概略圖。

(附圖標(biāo)記說明)

3：掩模；5：基板；7：投影光學(xué)系統(tǒng)；11：第一光闌；12：第二光闌；12A：遮光板。

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖，對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施方式進(jìn)行說明。

圖1為示出作為本發(fā)明的一個(gè)方面的曝光裝置的結(jié)構(gòu)的概略圖。曝光裝置為用于光刻工序的光刻裝置，該光刻工序是半導(dǎo)體器件、平板顯示器等器件的制造工序。如圖1所示，曝光裝置包括光源1和照明光學(xué)系統(tǒng)2，該照明光學(xué)系統(tǒng)2將來自光源1的光照射于掩模載置臺(tái)4上的掩模3。透射了掩模3的光經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)7被投影于基板載置臺(tái)6上的基板5。在基板5上涂敷抗蝕劑膜，經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)7投影掩模3的圖案，從而在抗蝕劑膜形成與掩模3的圖案對(duì)應(yīng)的潛像圖案。